| 主权项 |
1.一种水面立体转印机构之改进,包括:一机台,机台前端设有一胶膜传送机构,该胶膜传送机构系由数个滚轴配设于不同位置所组成,使胶膜经胶膜卷轴卷出后,藉由数个滚轴使其保持平稳移动;一活化剂供给机构,设于机台上端;一活化剂匀布机构,设于活化剂供给机构后方;一风扇机构,设于活化剂匀布机构后方,以吹拂下端通过之胶膜;一转印机构,系用以夹持转印物件浸入水里转印;一水槽,设于机台后端,提供胶膜均匀溶入;其特征在于:所述之活化剂供给机构,系设有一固定至机台之平台,平台上端在胶膜流动的径方向上,间隔设置有数个定时定量供给泵浦,以适时将适量活化剂滴落在胶膜表面,再藉活化剂匀布机构将活化剂匀布于胶膜表面者。2.如申请专利范围第1项之水面立体转印机构之改进,其中在胶膜传送机构与活化剂供给机构之间,系另设有一胶膜整平滚轮,该胶膜整平滚轮内部设有加热器,使其表面产生适当温度,使胶膜通过后可克服因外界湿度产生之皱缩者。3.如申请专利范围第1或2项之水面立体转印机构之改进,其中所述之该活化剂匀布机构,系于一平台座下端装设规尺,使胶膜通过规尺下端时受到规尺均匀平刮,进而使胶膜表面之活化剂匀布者。4.如申请专利范围第3项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之平台座两端系各组设一组液压缸,以控制其与规尺可上下移动者。5.如申请专利范围第4项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之规尺系为圆棒状,且表面形成有环沟者。6.如申请专利范围第5项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之平台座下端设有一调整机构,该调整机构具有一抵板,抵板可受平台座压抵相接,该抵板外端设一调整钮,调整钮可用以控制蜗杆连动而使抵板能上下移位,进而调整规尺与其下端滚轴之间隙,以因应不同胶膜厚度调整。7.如申请专利范围第1项之水面立体转印机构之改进,其中所述之水槽一端设有过滤槽者。8.如申请专利范围第1项之水面立体转印机构之改进,其中所述之水槽下端设有打水泵,以将过滤后之水回流至槽内。9.如申请专利范围第1项之水面立体转印机构之改进,其中所述之转印机构,设有一支杆、第一链条组、第二链条组及一物件吊架,系透过控制第一链条组及第二链条组动作,以控制物件吊架上之物件浸入水面转印的位置。10.一种水面立体转印机构之改进,包拈:一机台,机台前端设有一胶膜传送机构,该胶膜传送机构系由数个滚轴配设于不同位置所组成,使胶膜经胶膜卷轴卷出后,藉由数个滚轴使其保持平稳移动;一活化剂供给机构,设于机台上端;一活化剂匀布机构,设于活化剂供给机构后方;一风扇机构,设于活化剂匀布机构后方,以吹拂下端通过之胶膜;一转印机构,系用以夹持转印物件浸入水里转印;一水槽,设于机台后端,提供胶膜均匀溶入;其特征在于:于胶膜传送机构与活化剂供给机构之间,系另设有一胶膜整平滚轮,该胶膜整平滚轮内部设有加热器,使其表面产生适当温度,使胶膜通过后可克服因外界湿度产生之皱缩者。11.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述之活化剂供给机构,系设有一固定至机台之平台,平台上端在胶膜流动的径方向上,间隔设置有数个定时定量供给泵浦,以适时将适量活化剂滴落在胶膜表面,再藉活化剂匀布机构将活化剂匀布于胶膜表面者。12.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述之活化剂匀布机构,系于一平台座下端装设规尺,使胶膜通过规尺下端时,表面活化剂因受到规尺均匀刮平分布于胶膜表面者。13.如申请专利范围第12项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之平台座两端系各组设一组液压缸,以控制其与规尺可上下移动者。14.如申请专利范围第13项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之规尺系为圆棒状,且表面形成有环沟者。15.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述活化剂匀布机构之平台座下端设有一调整机构,该调整机构具有一抵板,抵板可受平台座压抵相接,该抵板外端设一调整钮,调整钮可用以控制蜗杆连动而使抵板能上下移位,进而调整规尺与其下端滚轴之间隙,以因应不同胶膜厚度调整。16.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述之水槽一端设有过滤槽者。17.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述之水槽下端设有打水泵,以将过滤后之水回流至槽内。18.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述之转印机构,设有一支杆、第一链条组、第二链条组及一物件吊架,系透过控制第一链条组及第二链条组动作,以控制物件吊架上之物件浸入水面转印的位置。19.如申请专利范围第10项之水面立体转印机构之改进,其中所述胶膜整平滚轮之加热器可为电热式或热煤式。图式简单说明:第1图为习见使用PU发泡轮之示图;第2图为本创作之整体平面示图。第3图为本创作之局部立体示图。第4图为本创作之实施示图。第5图为本创作之局部侧视图。 |
