发明名称 | 注入式激光器 | ||
摘要 | 本发明涉及具有特殊结构光学谐振腔的注入式激光器,整个谐振腔包含用于强出射放大的放大区有源体积以及辐射进入区(7)的无源体积,该体积包含多个激光异质结构(2)层和相应的组分和厚度,辐射进入区(7)的光学小面(8,9)有不同的结构,还包含欧姆接触(15,16),因此能确定激光辐射模式的形成区域以及他们的受激复合和非平衡载流子的注入区,还可增加激光辐射的功率,减小电流阈值密度,增加激光效率,对于互相垂直的辐射出流方向降低发散角到衍射角,还可增加产生单模过程的规律性,改善空间光学特性,降低激光辐射的波长对泵浦电流的依赖性,增加使用寿命和可靠性,还涉及具有提高垂直工作层面输出激光辐射的高效激光器,以及利用自激活的具有高功率激光束的激光器。 | ||
申请公布号 | CN1150667C | 申请公布日期 | 2004.05.19 |
申请号 | CN99810575.9 | 申请日期 | 1999.08.05 |
申请人 | 瓦西里·依凡诺维奇·施维京 | 发明人 | 瓦西里·依凡诺维奇·施维京 |
分类号 | H01S5/32 | 主分类号 | H01S5/32 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 姜丽楼 |
主权项 | 1.一种注入式激光器,包含至少一个具有纵向增益轴的增益区,并以出流角输出激光辐射,所述的注入式激光器包含:一激光器异质结构,该结构包含:一至少由一增益区形成的工作层;至少包含一具有折射率的包覆子层的包覆层,和欧姆接触;以及至少一邻接于对于所述激光辐射透射的激光器异质结构的辐射入流区,其折射率为nRIR,,并位于所述工作层的至少一侧面上;反射器共同构成一谐振腔,至少部分所述谐振腔与至少部分所述辐射入流区和至少部分所述增益区相一致,谐振腔的反射器中的至少之一具有反射系数,其中,所述激光器异质结构和相邻的辐射入流区一起具有有效的折射率为neff,并使,nRIR大于neff arccos(neff/nRIR)≤arccos(neff-min/nRIR);以及neff-min≥nmin 这里,neff-min是具有从工作层出射辐射的出流进入辐射入流区的异质结构的neff的最小值,该nmin是异质结构的包覆层内最小的折射率值。 | ||
地址 | 俄罗斯莫斯科 |