| 发明名称 |
Herstellungsverfahren für einen porösen Siliziumdioxid-Film |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60005875(T2) |
申请公布日期 |
2004.05.19 |
| 申请号 |
DE2000605875T |
申请日期 |
2000.03.16 |
| 申请人 |
CANON SALES CO. INC., TOKIO/TOKYO;SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY, CO. LTD. |
发明人 |
MAEDA, KAZUO |
| 分类号 |
C23C16/04;C23C16/40;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/762 |
主分类号 |
C23C16/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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