| 发明名称 | 抛光垫及多层抛光垫 | ||
| 摘要 | 本发明目的在于提供能有效抑制擦伤发生的抛光垫和多层抛光垫。本发明的抛光垫，其特征在于其中具有在抛光面侧形成的、且从呈环状、格状和螺旋状中选出至少一种形状的沟(a)、凹部(b)和贯穿抛光垫表里的通孔(c)中的至少一个部位，该部位内表面的表面粗糙度(Ra)处于20μm以下，用于化学机械抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN1494983A | 申请公布日期 | 2004.05.12 |
| 申请号 | CN03140681.5 | 申请日期 | 2003.06.03 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 川桥信夫;长谷川亨;志保浩司;河村知男;河原弘二;保坂幸生 |
| 分类号 | B24B37/00;H01L21/304 | 主分类号 | B24B37/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.抛光垫，其特征在于其中具有在抛光面侧形成的、且从呈格状、环状和螺旋状中选出至少一种形状的沟(a)、凹部(b)和贯穿抛光垫表里的通孔(c)中的至少一个部位，该部位内表面的表面粗糙度(Ra)处于20μm以下，用于化学机械抛光。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||