发明名称 直下式背光模组组装结构改良(一)
摘要 一种直下式背光模组组装结构改良(一),其主要系于基座之中比较容易拆装之位置上设置有凹槽,该凹槽系用以提供发光元件容置之用,如此一来在做发光元件之维修更新之工作时,将不必再做许多不必要之拆解动作,藉以使得发光元件之拆装维修工作更加便利。伍、(一)、本案代表图为:第四图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:基座 10接合面 16凹槽 11 扩散板 17斜面 12 液晶模组 18第一反射元件 13 活动基座 20导光元件 14 第二反射元件 21容置空间 15 发光元件
申请公布号 TW587666 申请公布日期 2004.05.11
申请号 TW091220502 申请日期 2002.12.17
申请人 三和企业股份有限公司 发明人 郭恒晃
分类号 F21V19/00;F21V17/00 主分类号 F21V19/00
代理机构 代理人 谢宗颖 台北市大安区敦化南路二段七十一号十八楼;王云平 台北市大安区敦化南路二段七十一号十八楼
主权项 1.一种直下式背光模组组装结构改良(一),其包括 有: 一基座,该基座之中间位置设置有一呈长方形之凹 槽,该凹槽之两侧分别具有从中间向两侧向上倾斜 之斜面,该斜面上依序设置一第一反射元件以及一 导光元件; 一发光元件,系设置于该凹槽中; 一活动基座,系呈一矩形状,其上设置一第二反射 元件,该活动基座设置于该凹槽之后侧,使该发光 元件容置于该基座中,而卡挚固定该活动基座之上 下两端于该基座之上下两侧;藉此该发光元件系以 可置换的方式设置于该基座上。2.如申请专利范 围第1项所述之直下式背光模组组装结构改良(一), 其中该基座与该活动基座系为散热良好之金属所 制成。3.如申请专利范围第1项所述之直下式背光 模组组装结构改良(一),其中该发光元件系为冷阴 极管或发光二极体。4.如申请专利范围第1项所述 之直下式背光模组组装结构改良(一),其中该第一 反射元件与该第二反射元件系以平贴或电镀的方 式设置于该斜面或该活动基座上。5.如申请专利 范围第1项所述之直下式背光模组组装结构改良( 一),其中该基座与该活动基座系为一体成形,于该 基座上设置该第一反射元件,而该发光元件即直接 设置于该第一反射元件上。6.如申请专利范围第1 项所述之直下式背光模组组装结构改良(一),其中 该基座之斜面系呈一圆弧形,而设置于该第一反射 元件上之导光元件呈一矩形之板状,亦使该发光元 件穿过该凹槽而设置于该基座内。7.如申请专利 范围第1项所述之直下式背光模组组装结构改良( 一),其中该基座之斜面系呈一V字形,而设置于该第 一反射元件上之导光元件亦呈一V字形,且于该导 光元件之内侧并相对于该凹槽之中间位置上设置 有一呈长方形之容置空间,藉以供该发光元件容置 于内。8.如申请专利范围第1项所述之直下式背光 模组组装结构改良(一),其中该基座系成一连续之V 字形状,且该导光元件亦呈一连续之V字形状,藉可 同时设置多组该发光元件及该活动基座。图式简 单说明: 第一图 系习知直下式背光模组之剖视图。 第二图 系本创作之第一实施例之立体分解图。 第三图 系本创作之第一实施例之剖视图。 第四图 系本创作之第一实施例之部分分解剖视图 。 第五图 系本创作之第二实施例之剖视图。 第六图 系本创作之第三实施例之立体分解图。 第七图 系本创作之第三实施例之剖视图。 第八图 系本创作之第四实施例之部分分解剖视图 。
地址 台北县芦洲市信义路七十三巷六号