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发明名称 A PROCESS AND APPARATUS FOR PLASMA ACTIVATED DEPOSITION IN A VACUUM
摘要
申请公布号 EP1409762(A1) 申请公布日期 2004.04.21
申请号 EP20010939337 申请日期 2001.05.23
申请人 UNIVERSITY OF VIRGINIA PATENT FOUNDATION;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DERANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 GROVES, JAMES, F.;HASS, DEREK;WADLEY, HAYDN, N., G.;MATTAUSCH, GOESTA;MORGNER, HENRY;SCHILLER, SIEGFRIED
分类号 C23C14/28;C23C14/30;C23C14/32;H01J37/305;H01J37/32;(IPC1-7):C23C14/28 主分类号 C23C14/28
代理机构 代理人
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