Lithographic apparatus with vacuum chamber and interferometric alignment system,申请号EP20000311544-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Lithographic apparatus with vacuum chamber and interferometric alignment system
摘要
申请公布号	EP1111473(A3)	申请公布日期	2004.04.21
申请号	EP20000311544	申请日期	2000.12.21
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	BURGHOORN, JACOBUS
分类号	G03F9/00;(IPC1-7):G03F9/00;G03F7/20	主分类号	G03F9/00
代理机构		代理人
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