| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR AN IMPROVED BAFFLE PLATE IN A PLASMA PROCESSING SYSTEM |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2003276601(A1) |
申请公布日期 |
2004.04.19 |
| 申请号 |
AU20030276601 |
申请日期 |
2003.09.29 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
HIDEHITO SAIGUSA;TAIRA TAKASE;KOUJI MITSUHASHI;HIROYUKI NAKAYAMA |
| 分类号 |
H01J37/32;(IPC1-7):H01J37/00 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
