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发明名称 Plasmaätzmethode
摘要
申请公布号 DE69628358(T2) 申请公布日期 2004.04.08
申请号 DE19966028358T 申请日期 1996.02.07
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO 发明人 INAZAWA, KOICHIRO;OKAMOTO, SHIN;HAYASHI, HISATAKA;MATSUSHITA, TAKAYA
分类号 H05H1/46;C23F4/00;C30B33/12;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/00 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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