废水中有机物氧化去除系统与方法

摘要

本发明是关于半导体、液晶显示器(LCD)等相关工业制程排放废水，甚至其它事业所产生的含有机污染物的废水的有机物的氧化去除，是关于一种借助注入臭氧及经紫外光照射的废水中有机物氧化去除流程与装置。一个处理含有机物废水的流程与系统。此系统包括紫外光/臭氧(UV/ozone)氧化去除模块，或一个或数个去除模块串联，此串联可连续或不连续。一个UV/ozone氧化去除模块主要包括臭氧产生器、臭氧吸入器、臭氧溶解槽、臭氧破坏装置、紫外线(UV)反应槽及回流管路。UV/ozone氧化去除模块的效率由回流水比例、臭氧浓度、及紫外线强度所控制。

主权项

1.一种废水中有机物的氧化去除模块，包括：一臭氧吸入器，其适于分别连接一用于泵入欲被处理水的马达，及一臭氧产生器，该臭氧吸入器用于混合该欲被处理水与臭氧来源气体；一臭氧溶解槽，其接收该臭氧吸入器所产生的臭氧/废水混合液，并提供臭氧与该欲被处理水中的有机物进行氧化反应的一停留时间；一紫外线反应槽，其接收来自该臭氧溶解槽的含臭氧的废水，并且使该含臭氧的废水经紫外光照射，使其中的有机物进行光化学氧化；一选择性的附加纯化组件，该附加纯化组件为薄膜处理组件、离子交换组件、活性碳吸附组件、或脱气组件，用于将紫外线反应槽出流水进一步纯化；及一回流机构，包括用于将该紫外线反应槽的出流水或当该附加纯化组件存在时将该附加纯化组件的出流水的一部份回流至该欲被处理水的管路而构成其中的一部份的回流管路，将另一部份出流水出流至下一处理阶段的出流管路，及一或多个阀用于控制回流水对至下一处理阶段的出流水的流量比例。