制造抗反射涂层基片的方法

摘要

本发明涉及制造抗反射涂层基片，其包括透明基片(1)和在透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜由多层膜制成，所述多层膜具有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)。中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成。低折射指数层由含有硅和氧的材料制成。抗反射膜用一种在线溅射仪器，通过相继层积这些层而形成。

主权项

1、一种制造抗反射涂层基片的方法，该抗反射涂层基片包括透明基片(1)和在该透明基片上形成的抗反射膜，抗反射膜包括多层膜，该多层膜含有按下列顺序相继形成在透明基片上的下列各层：中等折射指数层(2)、高折射指数层(3)和低折射指数层(4)，中等折射指数层由含有硅、锡和氧的材料制成，高折射指数层由含有氧和至少一种选自钛、铌、钽和铪的元素的材料制成，低折射指数层由含有硅和氧的材料制成，该抗反射膜是通过采用在线溅射仪器相继层积这些层而形成的。