发明名称 电子元件部的障壁性薄膜密封构造,显示装置,电子机器,及电子元件部的制造方法
摘要 本发明系提供一显示装置本身厚度很薄,且可充分确保针对水份、氧的障壁性,而防止发光层劣化的显示装置及其密封构造及具备该显示装置的电子机器以及显示装置的制造方法。本发明乃为一在至少形成在基体2上的电子元件部3上,积层有平坦化树脂层14c和障壁层14d各积层一层以上的多层密封膜14b,藉此密封电子元件部3的构造,采用在基体2上形成电子元件部3围在内侧的环状拦阻部14a,平坦化树脂层14c是形成在拦阻部14a的内侧为其特征的电子元件部3的障壁性薄膜密封构造。
申请公布号 TW580843 申请公布日期 2004.03.21
申请号 TW092100795 申请日期 2003.01.15
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 今村阳一
分类号 H05B33/04;H05B33/10 主分类号 H05B33/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种电子元件部的障壁性薄膜密封构造,乃属于 在至少形成或安装在基体上的电子元件部上,积层 有平坦化树脂层和障壁层各积层一层以上的多层 密封膜,藉此密封前述电子元件部的构造,其特征 为: 在前述基体上形成将该电子元件部全体或一部分 围在内侧的环状拦阻部,前述平坦化树脂层是形成 在前述拦阻部的内侧。2.如申请专利范围第1项所 记载的电子元件部的障壁性薄膜密封构造,其中, 前述障壁层是形成到前述拦阻部的外侧。3.如申 请专利范围第1项所记载的电子元件部的障壁性薄 膜密封构造,其中,在前述拦阻部的外侧,至少形成 一层以上的别的拦阻部。4.如申请专利范围第3项 所记载的电子元件部的障壁性薄膜密封构造,其中 ,复数个平坦化树脂层是各自形成在各个前述拦阻 部的内侧。5.如申请专利范围第3项所记载的电子 元件部的障壁性薄膜密封构造,其中,复数个障壁 层是各自形成到各个前述拦阻部的外侧。6.如申 请专利范围第1项所记载的电子元件部的障壁性薄 膜密封构造,其中,前述拦阻部是指由排液性表面 处理的有机材料所制成的外围间隔壁层。7.如申 请专利范围第1项所记载的电子元件部的障壁性薄 膜密封构造,其中,前述拦阻部是指环状形成在基 体上的排液性区域。8.如申请专利范围第1项所记 载的电子元件部的障壁性薄膜密封构造,其中,至 少在前述拦阻部内侧的基体上形成亲液性处理膜 。9.如申请专利范围第7项所记载的电子元件部的 障壁性薄膜密封构造,其中,前述排液性区域是指 前述亲液性处理膜为经由排液处理所形成者。10. 一种显示装置,其特征为: 具备有: 形成或安装在基体上的显示元件部、和该显示元 件部的全体或一部分形成在围在内侧的环状拦阻 部、和平坦化树脂层与障壁层成为至少各一层以 上被积层在前述显示元件上的多层密封膜,前述平 坦化树脂层是形成在前述拦阻部的内侧。11.如申 请专利范围第10项所记载的显示装置,其中,前述障 壁层是形成到前述拦阻部的外侧。12.如申请专利 范围第10项所记载的显示装置,其中,在前述拦阻部 的外侧,至少形成一层以上的别的拦阻部。13.如申 请专利范围第12项所记载的显示装置,其中,复数个 平坦化树脂层是各自形成在各个前述拦阻部的内 侧。14.如申请专利范围第12项所记载的显示装置, 其中,复数个障壁层是各自形成在各个前述拦阻部 的外侧。15.如申请专利范围第10项所记载的显示 装置,其中,前述拦阻部是指由排液性表面处理的 有机材料所制成的外围间隔壁层。16.如申请专利 范围第10项所记载的显示装置,其中,前述拦阻部是 指环状形成在基体上的排液性区域。17.如申请专 利范围第10项所记载的显示装置,其中,至少在前述 拦阻部内侧的基体上,形成亲液性处理膜。18.如申 请专利范围第16项所记载的显示装置,其中,前述排 液性区域是指前述亲液性处理膜是经由排液处理 所形成。19.如申请专利范围第10项所记载的显示 装置,其中,前述显示元件部是由复数个发光元件 、和区分该复数个发光元件的间隔壁部所构成,前 述发光元件是由电极、和邻接该电极而形成的机 能层、和邻接在该机能层而形成的对向电极所形 成。20.如申请专利范围第10项所记载的显示装置, 其中,具备有驱动前述显示元件部的驱动电路,该 驱动电路是经由至少各一的前述平坦化树脂层及 前述障壁层被密封。21.一种电子机器,其特征为: 具备申请专利范围第10项所记载的显示装置。22. 一种电子元件部的制造方法,乃属于至少具备有形 成在基体上的电子元件部的电子元件部的制造方 法,其特征为具备有: 在前述电子元件部的全部或一部分周围的基体上 形成环状拦阻部的拦阻部形成工程、和在该拦阻 部的内侧涂布含有树脂单体或树脂低聚物的树脂 涂剂后,聚合而形成平坦化树脂层的平坦化树脂层 形成工程、和形成至少被覆前述平坦化树脂层及 前述拦阻部的障壁层的障壁层形成工程。23.如申 请专利范围第22项所记载的电子元件部的制造方 法,经由交互复数次施行前述平坦化树脂层形成工 程及前述障壁层形成工程,形成交互积层前述平坦 化树脂层和前述障壁层的积层密封层。图式简单 说明: 第1图是表示本发明的第一实施形态的显示装置的 配线构造的平面模式图。 第2图是表示本发明的第一实施形态的显示装置的 平面模式图。 第3图是沿着第2图的A-A'线的断面图。 第4图是沿着第2图的B-B'线的断面图。 第5图是说明本发明的第一实施形态的显示装置的 制造方法的工程图。 第6图是说明本发明的第一实施形态的显示装置的 制造方法的工程图。 第7图是说明本发明的第一实施形态的显示装置的 制造方法的工程图。 第8图是说明本发明的第一实施形态的显示装置的 制造方法的工程图。 第9图是说明本发明的第一实施形态的显示装置的 制造方法的工程图。 第10图是说明本发明的第一实施形态的显示装置 的制造方法的工程图。 第11图是说明本发明的第一实施形态的显示装置 的制造方法的工程图。 第12图是说明本发明的第一实施形态的显示装置 的制造方法的工程图。 第13图是表示本发明的第二实施形态的显示装置 的密封构造要部的断面图。 第14A、14B图是说明本发明的第二实施形态的显示 装置的制造方法的工程图。 第15A、15B、15C图是说明本发明的第二实施形态的 显示装置的制造方法的工程图。 第16图是表示本发明的第三实施形态的显示装置 的密封构造要部的断面图。 第17图是表示本发明的第四实施形态的显示装置 的平面模式图。 第18图是沿着第17图的A-A'线的断面图。 第19图是沿着第17图的B-B'线的断面图。 第20A、20B、20C图是表示本发明的第五实施形态中 的电子机器的立体图。 第21图是表示涂布树脂涂剂时所用的遮罩与母基 板的配置状态的平面图。
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