| 发明名称 |
Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003256081(A8) |
申请公布日期 |
2004.03.11 |
| 申请号 |
AU20030256081 |
申请日期 |
2003.08.22 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
DAVID M. WILLIAMSON;HIRONORI IKEZAWA;YASUHIRO OMURA |
| 分类号 |
G02B13/14;G02B13/18;G02B13/24;G02B17/08;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G02B13/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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