发明名称 基板表面上之液体之移除设备及方法
摘要 一种基板表面上之液体之移除设备包含一夹头、一马达、一第一供料口及一喷嘴。马达驱动用以夹持该基板之夹头旋转,而为该液体提供一离心力。第一供料口提供挥发性溶剂(例如异丙醇)至该基板表面上,该挥发性溶剂为该液体提供一脱离力以帮助该液体脱离该基板表面。喷嘴提供一流体喷流通过该基板表面之上方,俾利用伯努利效应对该基板表面上之该液体产生一抽真空力量。该基板表面上之该液体系藉由该抽真空力量、该离心力与该脱离力而被移除。本发明亦提供一种基板表面上之液体之移除方法。五、(一)、本案代表图为:图1(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:10~夹头 11~基板12~马达 13~基板表面14~第一供料口 16~第二供料口18~第三供料口 20~第四供料口22~喷嘴 23~流体喷流32~第一管 34~第二管36~第三管
申请公布号 TW578220 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW092102443 申请日期 2003.01.30
申请人 微颖应用材料股份有限公司 发明人 谢育和
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 叶信金 新竹市武陵路二七一巷五十七弄十号六楼
主权项 1.一种基板表面上之液体之移除设备,包含:一夹头,用以夹持一基板;一马达,驱动该夹头旋转,而为该液体提供一离心力;一第一供料口,用以提供一挥发性溶剂至该基板表面上,该挥发性溶剂为该液体提供一脱离力以帮助该液体脱离该基板表面;及一喷嘴,用以提供一流体喷流通过该基板表面之上方,俾对该基板表面上之该液体产生一抽真空力量,其中该基板表面上之该液体系藉由该抽真空力量、该离心力与该脱离力而被移除。2.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该挥发性溶剂系为选自于由异丙醇(Isopropyl Alcohol,IPA),乙醯丙酮(diacetone),甲基乙二醇(ethylglycol)及甲基 咯烷酮(methylpyrolidon)所组成之群组。3.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该液体系为水。4.如申请专利范围第1项所述之移除设备,更包含:一第二供料口,用以提供该液体至该基板表面上;及一第三供料口,用以提供一乾燥气体至该基板表面上,用以乾燥该基板。5.如申请专利范围第4项所述之移除设备,其中该乾燥气体系为热氮气。6.如申请专利范围第4项所述之移除设备,其中该第一供料口、该第二供料口、以及该喷嘴之相对位置可以调整。7.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该喷嘴提供之流体喷流系为气体。8.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该喷嘴提供之流体喷流系为氮气。9.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该喷嘴提供之流体喷流系为空气。10.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该喷嘴提供之流体喷流系为液体。11.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该喷嘴提供之流体喷流系为水。12.如申请专利范围第1项所述之移除设备,其中该基板具有图案(pattern),该图案具有深宽比大于或等于10之沟槽。13.一种基板表面上之液体之移除方法,包含以下步骤:旋转该基板,以对该基板表面上之该液体提供一离心力;提供一挥发性溶剂至该基板表面上,该挥发性溶剂为该液体提供一脱离力以帮助该液体脱离该基板表面;及提供一流体喷流通过该基板表面之上方,俾对该基板表面之该液体产生一抽真空力量,其中该基板表面上之该液体系藉由该抽真空力量、该离心力与该脱离力而被移除。14.如申请专利范围第13项所述之移除方法,其中该挥发性溶剂系为选自于由异丙醇(Isopropyl Alcohol,IPA),乙醯丙酮(diacetone),甲基乙二醇(ethylglycol)及甲基 咯烷酮(methylpyrolidon)所组成之群组。15.如申请专利范围第13项所述之移除方法,更包含:提供一乾燥气体至该基板表面,用以乾燥该基板表面。16.如申请专利范围第15项所述之移除方法,其中该乾燥气体系为热氮气。17.如申请专利范围第13项所述之移除方法,其中该基板表面上之液体系为水。图式简单说明:图1显示依据本发明之一种基板表面上之液体之移除设备之侧视示意图。图2显示依据本发明之基板表面上之液体之移除设备之俯视示意图。图3显示用以移除基板上之图案的沟槽内之液体之示意图。
地址 桃园县龙潭乡高平村石崎子十五号