发明名称 MEMS元件及其制造方法、光调制元件、GLV装置及其制造方法、及雷射显示器
摘要 本发明之目的系达成MEMS元件之驱动侧电极表面之平滑化。为达成此目的,该MEMS元件系具备:基板侧电极45;以及梁条46,其系由相对向于基板侧电极45而配置,并藉由在与其基板侧电极45之间作用的静电引力或静电斥力而驱动的基板侧电极48所构成;且基板侧电极45系由单结晶半导体层所形成。
申请公布号 TW200402552 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092100597 申请日期 2003.01.13
申请人 新力股份有限公司 发明人 河西弘人
分类号 G02B6/26 主分类号 G02B6/26
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本
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