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发明名称
MEMS元件及其制造方法、光调制元件、GLV装置及其制造方法、及雷射显示器
摘要
本发明之目的系达成MEMS元件之驱动侧电极表面之平滑化。为达成此目的,该MEMS元件系具备:基板侧电极45;以及梁条46,其系由相对向于基板侧电极45而配置,并藉由在与其基板侧电极45之间作用的静电引力或静电斥力而驱动的基板侧电极48所构成;且基板侧电极45系由单结晶半导体层所形成。
申请公布号
TW200402552
申请公布日期
2004.02.16
申请号
TW092100597
申请日期
2003.01.13
申请人
新力股份有限公司
发明人
河西弘人
分类号
G02B6/26
主分类号
G02B6/26
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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