| 摘要 |
一种具下式之无机离子受体调节化合物：其中Ar1为基或苯基，视情况以0至5个取代基取代，各自独立选自一群包括低碳烷基、卤素、低碳烷氧基、低碳烷硫基、伸甲二氧基、低碳卤烷基、低碳卤烷氧基、OH、CH2OH、CONH2、CN、乙醯氧基、N（CH3）2、苯基、苯氧基、基、氧基、α，α–二甲基基、NO2、CHO、CH3CH（OH）、乙醯基、伸乙二氧基；Ar2为基或苯基，视情况以0至5个取代基取代，各自独立选自一群包括低碳烷基、卤素、低碳烷氧基、低碳烷硫基、伸甲二氧基、低碳卤烷基、低碳卤烷氧基、OH、CH2OH、CONH2、CN和乙醯氧基；q为0、1、2或3；和R为H、低碳烷基；及其在医药上之盐和错合物；其中该化合物调节1或多种无机离子受体活性。 |
