| 发明名称 |
Production of a tungsten base material for hollow charges, fragments and/or penetrators comprises removing interstitial impurities from the base material |
| 摘要 |
Production of a tungsten base material comprises removing interstitial impurities from the base material.
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| 申请公布号 |
DE10231777(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.05 |
| 申请号 |
DE20021031777 |
申请日期 |
2002.07.13 |
| 申请人 |
DIEHL MUNITIONSSYSTEME GMBH & CO. KG |
发明人 |
EIGENMANN, BERND;RUDOLF, KARL;SCHILDKNECHT, MANFRED |
| 分类号 |
C22B9/22;C22B34/36;C22C27/04;(IPC1-7):C22B34/30 |
主分类号 |
C22B9/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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