| 主权项 |
1.一种将淤浆费托烃合成反应器中制得的淤浆烃液予以氢化异构化的方法,该反应器由合成气制得该液体,其中,该淤浆包含气泡和触媒颗粒于该液体中,该方法包含:(a)使一部分该淤浆与用以移除气泡的装置接触,制得气泡减少的淤浆;(b)使氢处理气体和该气泡减少的淤浆向上通过一或多个位于该合成反应器外并与其中的该淤浆流体连通的提升反应器中,各个该提升反应器内含氢化异构化反应触媒并含有氢化异构化反应区;(c)使该气泡减少的淤浆和氢在该触媒存在时于有效使至少一部分该液体氢化异构化的反应条件下反应,制得经氢化异构化的液体,及(d)将所有或一部分该经氢化异构化的液体通回该合成反应器,于其中与其中的该淤浆混合,形成该淤浆液的一部分。2.如申请专利范围第1项之方法,其中有超过一个下导管反应器。3.如申请专利范围第2项之方法,其中至少一个下导管含有含惰性金属的氢化异构化反应触媒且其中至少一个其他下导管含有非惰性金属氢化异构化反应触媒。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该处理气体亦作为提升气体,以制造该淤浆通过该提升反应器之循环。5.如申请专利范围第4项之方法,其中该淤浆烃液间歇或连续以产物液形式自该合成反应器排出,该合成反应器制造该烃淤浆液。6.如申请专利范围第5项之方法,其中除移除气泡以外,亦在该淤浆向上通入该氢化异构化反应区之前,自该淤浆移除至少一部分该触媒颗粒。7.如申请专利范围第6项之方法,其中该氢化异构化反应触媒包含整体触媒。8.如申请专利范围第7项之方法,其中该氢化异构化反应触媒为整体形式。9.如申请专利范围第7项之方法,其中该整体触媒包含多个直立排列于该区中的整体触媒主体。10.如申请专利范围第9项之方法,其中自该合成反应区移除的至少一部分该淤浆液通至至少一个至少包含分馏的升级操作和/或一或多个转化操作。11.如申请专利范围第10项之方法,其中该一或多个提升反应器连接于该合成反应器并与之有关。12.如申请专利范围第11项之方法,其中至少一部分该整体物主体直立分隔排列于该氢化异构化反应区中。13.如申请专利范围第12项之方法,其中该氢处理气体以沿着该区直立分隔排列的至少两个皆位于整体触媒主体上游的气体注入装置通入该区中。14.如申请专利范围第13项之方法,其中一个静态混合装置位于该介于该整体物主体之间的至少一部分空间中。15.如申请专利范围第14项之方法,其中至少一部分该氢注入位于至少一个该混合装置上游的该氢化异构化反应区中。16.如申请专利范围第15项之方法,其中藉没于该合成反应器之该淤浆中的气泡和固体移除装置自该淤浆移除该气泡和细粒固体。17.如申请专利范围第16项之方法,其中藉密度差而自该合成反应器中和该氢化异构化反应区上游中的该淤浆移液移除该气泡和细粒固体。18.如申请专利范围第17项之方法,其中藉没于该合成反应器中之该淤浆中的下导管装置,该气泡减少的淤浆液被喂至该提升反应器中。19.一种淤浆烃合成法,其包括将藉合成反应制得的烃液加以氢化异构化,而该烃液制自合成气,其包含下列步骤:(a)将包含H2和CO之混合物的合成气体通入在淤浆费托烃合成反应器中之包含三相淤浆的淤浆主体中,其中淤浆包含气泡和细粒烃合成触媒于淤浆烃液中;(b)于该触媒存在时,在有效形成烃的反应条件下,使该H2和CO于该合成反应器中反应,所形成烃的一部分于反应条件下为液体并包含该淤浆烃液;(c)使来自该淤浆主体的一部分该淤浆与用以移除气泡的装置接触,以形成气泡减少的淤浆烃液;(d)将氢处理气体和(c)中形成之该气泡减少的烃液向上通入位于该合成反应器外且与流体连通并相关的一或多个提升反应器的氢化异构化反应区中,它们于其中在有氢化异构化反应整体触媒存在时,反应形成倾倒点降低之经氢化异构化的烃液,其中该处理气体亦作为提升气体以制造该淤浆自该合成反应器通过该一或多个提升反应器之循环;(e)将所有或一部分该倾倒点降低的液体通回该合成反应器,于其中与其中的该淤浆主体混合。20.如申请专利范围第19项之方法,其中于制造该烃淤浆液时,该淤浆烃液间歇或连续以产物液形式自该合成反应器排出,其中至少一部分该产物液通至至少一个至少包含分馏的升级操作和/或一或多个转化操作。21.如申请专利范围第20项之方法,其中该气泡减少的淤浆与该氢于该氢化异构化反应区中反应之前,通过热交换装置以将其温度改变至与在该合成反应器中不同的値。22.如申请专利范围第21项之方法,其中该整体氢化异构化反应触媒包含多个直立排列的整体触媒主体,其至少一部分为直立式空间分隔。23.如申请专利范围第22项之方法,其中该氢处理气体以直立分隔各者沿着该区排列的至少两个皆位于整体触媒主体上游的气体注入装置通至该区中。24.如申请专利范围第23项之方法,其中在该淤浆液与该氢化异构化反应触媒接触之前,亦自该淤浆移除固体颗粒,其中藉没于该淤浆主体中的气泡和固体移除装置自该淤浆移除该气泡和细粒固体。25.如申请专利范围第24项之方法,其中一个静态混合装置位于该介于该触媒主体之间的至少一部分空间中。图式简单说明:附图1是根据本发明的一个实施例之烃合成反应器的简单图示,此反应器与内含整体氢化异构化反应触媒的外提升反应回圈连接。附图2是含有触媒区和两个静态混合器的外提升器截面图。附图3(a)和(b)分别是整体触媒的顶视图和侧视图。附图4是可用于本发明之方法之下导管中之过滤装置图。附图5是有整体氢化异构化反应触媒存在于试验装置管状反应器中时,十六烷转化率与温度的关系图。附图6是有整体氢化异构化反应触媒存在于试验装置管状反应器中时,十六烷的氢化异构化反应选择率图。 |
