发明名称 |
Epitaxiesubstrat für lichtemittierenden Verbundhalbleiterbaustein, Verfahren zu seiner Herstellung und lichtemittierender Baustein |
摘要 |
Um die Lichtausbeute zu verbessern, ohne die Schutzfunktion einer lichtemittierenden Schichtstruktur zu beeinträchtigen, wird eine dreischichtige p-leitende Struktur bereitgestellt, die aus ersten bis dritten Schichten besteht und mit einer lichtemittierenden Schichtstruktur in Kontakt steht. Die erste Schicht ist eine als Schutzschicht dienende n-AlGaN-Schicht, die dritte Schicht ist eine als Kontaktschicht dienende GaN:Mg-Schicht und die zweite Schicht ist eine zwischen diesen Schichten als Zwischenschicht ausgebildete AlGaN:Mg-Schicht. Durch Bereitstellen der Zwischenschicht kann eine InGaN-Schicht während des Wachstums der vorstehend erwähnten Schichten zuverlässig vor Wärme geschützt werden, auch wenn die n-AlGaN-Schicht dünn ausgebildet wird, so daß die GaN:Mg-Schicht in der Nähe der lichtemittierenden Schichtstruktur angeordnet werden kann, wodurch der Wirkungsgrad für Lochinjektion in die lichtemittierende Schichtstruktur und dadurch die Lichtausbeute erhöht wird.
|
申请公布号 |
DE10330629(A1) |
申请公布日期 |
2004.01.22 |
申请号 |
DE20031030629 |
申请日期 |
2003.07.07 |
申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
YAMANAKA, SADANORI;TSUCHIDA, YOSHIHIKO;ONO, YOSHINOBU;IYECHIKA, YASUSHI |
分类号 |
H01L33/14;H01L33/32;(IPC1-7):H01L33/00;H01L21/20 |
主分类号 |
H01L33/14 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|