发明名称 投影光学系统,曝光装置,以及元件制造方法
摘要 提供一种在两侧大致为远心,一面确保足够大的数值孔径及足够宽广的成像区域,一面使包括失真的诸像差被良好地修正,简洁而高性能的投影光学系统。是一种将第1物体)(R)的图案像形成于第2物体)(W)上的投影光学系统。投影光学系统由具有1.6以下的折射率之光学材料而形成,在第1物体侧及上述第2物体侧两处为实质上的远心。而且,当设光的波长为λ,第1物体与第2物体的距离为L,第2物体侧的数值孔径为NA,在第2物体上的最大像高为Y0时,满足(λL)/(NA×Y0^2)<1.5×10^–3之条件。
申请公布号 TW200401337 申请公布日期 2004.01.16
申请号 TW092114235 申请日期 2003.05.27
申请人 尼康股份有限公司 发明人 重松幸二;藤岛洋平;大村泰弘;石山敏朗
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本
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