发明名称 | 多量子阱波导对接耦合方法 | ||
摘要 | 本发明一种多量子阱波导对接耦合方法,包括如下步骤:(1)在衬底上外延生长元器件A的多量子阱结构;(2)淀积一层介质膜后,掩膜光刻,腐蚀掉A台条以外的多量子阱结构;(3)再次外延元器件B的多量子阱结构;(4)掩膜光刻去掉A和B界面处生长质量不好的部分;(5)最后大面积外延优化设计的体材料,同时作为元器件A和B的上波导,以及它们之间的耦合波导。该方法可以消除直接对接出现的空洞和多量子阱弯曲现象,降低耦合损耗,提高出光功率,可应用于多种光电子集成器件的制作。 | ||
申请公布号 | CN1464603A | 申请公布日期 | 2003.12.31 |
申请号 | CN02124387.5 | 申请日期 | 2002.06.21 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 胡小华;王圩;朱洪亮 |
分类号 | H01S5/026;G02B6/42 | 主分类号 | H01S5/026 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
主权项 | 1、一种多量子阱波导对接耦合方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在衬底上外延生长元器件A的多量子阱结构;(2)淀积一层介质膜后,掩膜光刻,腐蚀掉A台条以外的多量子阱结构,该介质膜是二氧化硅或氧化硅;(3)再次外延元器件B的多量子阱结构;(4)掩膜光刻去掉A和B界面处生长质量不好的部分;(5)最后大面积外延优化设计的体材料,同时作为元器件A和B的上波导,以及它们之间的耦合波导。 | ||
地址 | 100083北京市海淀区清华东路肖庄 |