发明名称 多量子阱波导对接耦合方法
摘要 本发明一种多量子阱波导对接耦合方法,包括如下步骤:(1)在衬底上外延生长元器件A的多量子阱结构;(2)淀积一层介质膜后,掩膜光刻,腐蚀掉A台条以外的多量子阱结构;(3)再次外延元器件B的多量子阱结构;(4)掩膜光刻去掉A和B界面处生长质量不好的部分;(5)最后大面积外延优化设计的体材料,同时作为元器件A和B的上波导,以及它们之间的耦合波导。该方法可以消除直接对接出现的空洞和多量子阱弯曲现象,降低耦合损耗,提高出光功率,可应用于多种光电子集成器件的制作。
申请公布号 CN1464603A 申请公布日期 2003.12.31
申请号 CN02124387.5 申请日期 2002.06.21
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 胡小华;王圩;朱洪亮
分类号 H01S5/026;G02B6/42 主分类号 H01S5/026
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汤保平
主权项 1、一种多量子阱波导对接耦合方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在衬底上外延生长元器件A的多量子阱结构;(2)淀积一层介质膜后,掩膜光刻,腐蚀掉A台条以外的多量子阱结构,该介质膜是二氧化硅或氧化硅;(3)再次外延元器件B的多量子阱结构;(4)掩膜光刻去掉A和B界面处生长质量不好的部分;(5)最后大面积外延优化设计的体材料,同时作为元器件A和B的上波导,以及它们之间的耦合波导。
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