| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR PROCESS RESIDUE REMOVAL COMPOSITION AND PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002315510(A1) |
申请公布日期 |
2003.12.22 |
| 申请号 |
AU20020315510 |
申请日期 |
2002.07.01 |
| 申请人 |
EKC TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
DAVID, J. MALONEY;WAI MUN LEE;KATY IP;XUAN-DUNG DINH |
| 分类号 |
C11D3/30;C11D7/32;C11D7/50;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/304;(IPC1-7):C07C215/14;H01L21/306 |
主分类号 |
C11D3/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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