| 摘要 |
(问题)提供一种生成及供应氟气之装置，其系配置于半导体处理系统的气体供应系统内，并且在异常事件中，能藉由装置中安全与廉价的结构回复正常。(解答)生成及供应气体之装置30配置于半导体处理系统的气体供应系统内。装置30包含生成氟气的电解槽34及包含选自由氟化氮，氟化硫与氟化氯所组成之族群中的取代气体之圆柱体62。电解槽34及圆柱体62连接至气体切换区56，其系选择地从电解槽34供应氟气或从圆柱体62供应取代气体到气体利用区。控制器40是依电解槽侦测器36所侦测到之电解槽34的异常状态来从圆柱体62供应取代气体到气体利用区之方式控制气体切换区56。 |
