发明名称 以MoSi2为主成份之发热体
摘要 本发明系关于一种以MoSi2为主成分之发热体,系由含有MoSi2为主成分达80wt%以上、其余为SiO2所构成者;其特征在于,在该发热体中所含之杂质之Fe、Cr、Ni的含有量分别为100wtppm以下。本发明所提供之发热体,其不但能活用集积性高、高温化与温度控制容易、加热时之变形(扭曲)与短路等故障少此等以MoSi2为主成分之发热体的特征,且污染物质(杂质)少、特别适用于半导体制造装置用热处理炉(含氧化、扩散炉)。
申请公布号 TW564239 申请公布日期 2003.12.01
申请号 TW091132046 申请日期 2002.10.29
申请人 日材料股份有限公司 发明人 高村 博
分类号 C01G39/00 主分类号 C01G39/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种以MoSi2为主成分之发热体,系由含有MoSi2为主成分达80wt%以上、其余为SiO2所构成者;其特征在于,在该发热体中所含之杂质之Fe、Cr、Ni的含有量分别为100wtppm以下。2.一种以MoSi2为主成分之发热体,系由含有MoSi2为主成分达80wt%以上、其余为SiO2所构成者;其特征在于,在该发热体中所含之杂质之Fe、Cr、Ni的含有量分别为50wtppm以下。3.如申请专利范围第1或2项之以MoSi2为主成分之发热体,其中,杂质之Al、Mg、Na、K、Mn、Cu、B分别为10wtppm以下。4.如申请专利范围第1或2项之以MoSi2为主成分之发热体,其中,不计气体成分之其他杂质的总含有量为100wtppm以下。5.如申请专利范围第1或2项之以MoSi2为主成分之发热体,其中,不计气体成分之其他杂质的总含有量为50wtppm以下。6.如申请专利范围第1或2项之以MoSi2为主成分之发热体,系使用于半导体制造装置用热处理炉。7.如申请专利范围第1或2项之以MoSi2为主成分之发热体,系含有以MoSi2为主成分达90wt%以上之发热体。
地址 日本