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发明名称 METHOD FOR REMOVING A MASK LAYER FROM A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP1364391(A1) 申请公布日期 2003.11.26
申请号 EP20020714071 申请日期 2002.02.26
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 DRUMMER, HEIKE;KREUPL, FRANZ;SAENGER, ANNETTE;ENGELHARDT, MANFRED;SELL, BERNHARD;THIEME, PETER
分类号 H01L21/304;H01L21/306;H01L21/3105;H01L21/311;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/02 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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