发明名称 NON-POLAR A-PLANE GALLIUM NITRIDE THIN FILMS GROWN BY METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要 <p>Non-polar (1120) a-plane gallium nitride (GaN) films with planar surfaces are grown on (1102) r-plane sapphire substrates by employing a low temperature nucleation layer as a buffer layer prior to a high temperature growth of the non-polar (1120) a-plane GaN thin films.</p>
申请公布号 WO2003089695(P1) 申请公布日期 2003.10.30
申请号 US2003011176 申请日期 2003.04.15
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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