发明名称 单体喷射器和沉积室
摘要 喷射器(105)具有气体发放表面(114)、在体内形成用来接受气体的通道(117)、及在通道(117)和气体发放表面之间延伸的分配渠道或槽(118)。气体发放表面(114)含有倒圆的侧边区和的凹进区。喷射器可包括第二通道(156)及在体内形成并在第二通道(156)和气体发放表面(114)的倒圆的侧边区之间延伸的分配渠道或槽(157)用来发放腐蚀剂。沉积室(155)包括至少一个喷射器(105)、多个排气块(106)、和一个位在喷射器(105)和排气块(106)之下的支座(122),在它们之间形成沉积区。排气块(106)位在喷射器(105)每一侧的邻近并与它间隔开,从而在其间形成排气渠道(107)。
申请公布号 CN1122116C 申请公布日期 2003.09.24
申请号 CN98807203.3 申请日期 1998.07.10
申请人 硅谷集团热系统责任有限公司 发明人 亚当·Q·米勒;丹尼尔·M·多布金
分类号 C23C16/00 主分类号 C23C16/00
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 刘志平
主权项 1.一种用来将气体分布到基片上的喷射器,具有:一个单一狭长件,该件有两个端面和一个狭长的外部气体发放平面,该发放平面设有两个倒圆的侧边区和一个中央的凹进区,所说气体发放表面沿着狭长件的长度延伸,直接面向基片,在所说狭长件内形成的至少一条第一狭长通道在两个端面之间延伸用来接受一种气体;及在所说单一狭长件内形成的至少一个第一细长分配槽,该槽直接在所说第一狭长通道和所说气体发放表面的中央凹进区之间延伸,用来从所说狭长通道直接运送气体使它沿着狭长的外部气体发放表面分布。
地址 美国加利福尼亚州