发明名称 沉积金属和金属氧化物膜以及图案薄膜的方法
摘要 本发明涉及不含光刻胶的由金属配合物沉积金属,如铜,或其氧化物膜的方法。更具体地,该方法包含将金属配合物的非晶膜涂敷在衬底上。该金属配合物具有通式M<SUB>f</SUB>L<SUB>g</SUB>X<SUB>h</SUB>,其中,M选自Ti、V、Cr、Au、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Si、Sn、Li、Na、K、Ba、Sr、Mo、Ru、Pd、Pt、Re、Ir和Os;L是如通式(R<SUB>2</SUB>NCR<SUB>2</SUB>'CO)的配位体,其中R,R’均独立选自H、C<SUB>n</SUB>H<SUB>m</SUB>和C<SUB>n</SUB>H<SUB>m</SUB>A<SUB>x</SUB>B<SUB>y</SUB>,其中A和B均独立选自主族元素;f、g、h、n、m、x和y代表整数;X是阴离子并独立选自N<SUB>3</SUB>、NCO、NO<SUB>3</SUB>、NO<SUB>2</SUB>、Cl、Br、I、CN、OH、H、CH<SUB>3</SUB>。通过例如热、光化学或电子束的辐射,这些膜可转化成金属或其氧化物。利用直射光或电子束,通过一步即可形成带图案的金属或金属氧化物膜。
申请公布号 CN1439060A 申请公布日期 2003.08.27
申请号 CN01808682.9 申请日期 2001.04.27
申请人 EKC技术公司 发明人 R·H·希尔;石有茂
分类号 C23C18/14 主分类号 C23C18/14
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 沙捷
主权项 1.一种在衬底上制备含金属材料的图案薄膜的方法,包括:a).将通式为MfLgXh的金属前体配合物的非晶膜涂敷在衬底上,其中,M选自Ti、V、Cr、Au、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Si、Sn、Li、Na、K、Ba、Sr、Mo、Ru、Pd、Pt、Re、Ir和Os;L是如通式(R2NCR2’CO)的配位体,其中R,R’均独立选自H、CnHm和CnHmAxBy,其中A和B均独立选自主族元素;f、g、h、n、m、x和y代表整数;X是阴离子并独立选自N3、NCO、NO3、NO2、Cl、Br、I、CN、OH、H、CH3;和b).辐射所述非晶膜以使所述金属配合物进行反应,该反应将所述金属配合物转化成粘合在所述衬底上的含金属材料。
地址 美国加利福尼亚州