| 主权项 |
1.一种用以制造组成物之方法,此方法包括烧结含有二氧化钛和五氧化铌之蒸气源混合物,其中蒸气源混合物中二氧化钛的数量(以TiO2计所计算)系自30至75重量%;以及蒸气源混合物中五氧化铌之数量(以Nb2O5计所计算)系自25至70重量%。2.如申请专利范围第1项之用以制造组成物之方法,其中蒸气源混合物另外含有氧化锆及/或氧化钇。3.如申请专利范围第2项之用以制造组成物之方法,其中氧化锆(以ZrO2计所计算)及/或氧化钇(以Y2O3计所计算)的数量系相对于100重量份的二氧化钛和五氧化铌之总量,自3至46重量份。4.一种蒸气沉积用之组成物,其含有二氧化钛及五氧化铌;其中二氧化钛的数量(以TiO2计所计算)系自30至75重量%;以及五氧化铌之数量(以Nb2O5计所计算)系自25至70重量%。5.如申请专利范围第4项之组成物,其另外含有氧化锆及/或氧化钇。6.如申请专利范围第5项之组成物,其中氧化锆(以ZrO2计所计算)及/或氧化钇(以Y2O3计所计算)之数量相对于100重量份之氧化钛和氧化铌之总量是自3至46重量份。7.一种用以制造抗反射膜之方法,此方法包括烧结申请专利范围第4至6项中任一项之组成物,气化所烧结之组成物及沉积所产生之蒸气在基板上。8.如申请专利范围第7项之方法,其中基板是视需要具有一或数个覆盖层形成在其上之塑胶基板。9.如申请专利范围第7项之方法,此方法与离子协助之方法联合。10.如申请专利范围第8项之方法,此方法与离子协助之方法联合。11.一种抗反射膜,其系为交替方式之包括一或数层之二氧化矽及一或数层的可根据申请专利范围第7项之方法可制得之层。12.一种抗反射膜,其系为交替方式之包括一或数层之二氧化矽及一或数层的可根据申请专利范围第8项之方法可制得之层。13.一种抗反射膜,其系为交替方式之包括一或数层之二氧化矽及一或数层的可根据申请专利范围第9项之方法可制得之层。14.一种抗反射膜,其系为交替方式之包括一或数层之二氧化矽及一或数层的可根据申请专利范围第10项之方法可制得之层。15.一种光学元件,其系具有经形成在塑胶基板上之硬涂层并具有经形成在其上之申请专利范围第11至14项中任一项之抗反射膜。16.如申请专利范围第15项之光学元件,其系选自下列所构成之族群:眼镜之透镜、照相机之透镜、汽车之挡风玻璃及欲配合至字处理机的显示器上之滤光器。 |
