发明名称 |
发光器件 |
摘要 |
一种实现高孔径比的发光器件,其中图像的质量几乎不受TFT特性变化的影响。在像素部分中不提供大保持电容Cs,而是将驱动TFT的沟道长度和沟道宽度增加,并将沟道电容用作Cs。选择沟道长度显著大于沟道宽度,以改善饱和区的电流特性,并且将高V<SUB>GS</SUB>作用于驱动TFT以获得期望的漏极电流。因此,驱动TFT的漏极电流几乎不受阈值电压变化的影响。此外,设计像素时,导线被安排在隔离壁下面,TFT安排在导线下面,从而尽管增加驱动TFT的尺寸也可以避免减小孔径比。在3晶体管像素的情况下,开关TFT和擦除TFT线性排列,以进一步增加孔径比。 |
申请公布号 |
CN1432984A |
申请公布日期 |
2003.07.30 |
申请号 |
CN03102744.X |
申请日期 |
2003.01.17 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
纳光明;安西彩;小山润;宇田川诚;早川昌彦;山崎舜平 |
分类号 |
G09G3/30;G09G3/32 |
主分类号 |
G09G3/30 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王岳;梁永 |
主权项 |
1.一种发光器件,包括:多个像素,每个像素包括:一个发光元件;和一个驱动晶体管;其中,用于保持每个驱动晶体管的栅-源电压的电容器由驱动晶体管的栅极、半导体层中的沟道形成区、和其间的绝缘薄膜构成。 |
地址 |
日本神奈川县 |