发明名称 制造OLED装置的原位真空方法
摘要 一种制造,至少是部分地制造,对湿气或氧敏感的OLED装置的原位真空方法,该方法包括:将一个接收元件放到一个真空涂布机中,该接收元件将形成OLBD装置的一部分;将一个供体载体元件放到所述真空涂布机内并涂布该供体载体元件,以生产一个具有一个或多个涂层的供体元件,该涂层是生产OLED装置的全部或者一部分所必需的;将该供体元件的涂层面以物质传递关系定位到接收元件,其将在所述的真空涂布机中被涂布;和在真空条件下向供体元件施加辐射,以选择性地将一个或多个涂层从供体元件向接收元件传递。
申请公布号 CN1428874A 申请公布日期 2003.07.09
申请号 CN02159400.7 申请日期 2002.12.27
申请人 伊斯曼柯达公司 发明人 M·L·波罗森;S·A·范斯利克;A·G·皮纳塔
分类号 H01L33/00;H01L27/15;H01L51/40;H05B33/10 主分类号 H01L33/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 刘元金;王其灏
主权项 1.一种制造,至少是部分地制造,对湿气或氧敏感的OLED装置的原位真空方法,该方法包括以下步骤:a)在真空涂布机中设置一个接收元件,它将形成OLED装置的一部分;b)在所述的真空涂布机中设置一个供体载体元件,并涂布该供体载体元件以制备一个供体元件,它具有一个或多个生产整个或部分OLED装置所需的层;c)在所述的真空涂布机中,以物质传递关系将供体元件的涂层面定位到将被涂布的接收元件;和d)通过向供体元件施加辐射,使一个或多个层在真空中选择性地从供体元件向接收元件传递。
地址 美国纽约州