| 发明名称 |
Plasma reactors for processing semiconductor wafers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0786794(B1) |
申请公布日期 |
2003.07.02 |
| 申请号 |
EP19960309551 |
申请日期 |
1996.12.24 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
LOEWENHARDT, PETER K.;YIN, GERALD ZHEYAO;SALZMAN, PHILIP M. |
| 分类号 |
H05H1/02;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H05H1/00;H05H1/42;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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