| 发明名称 | 波像差测定装置,波像差测定方法,曝光装置及微型器件的制造方法 | ||
| 摘要 | 在测定投影光学系统(PL)的波像差之前,利用AF传感器(30)检测出在规定面上成像的测试中间掩模Rt的图样的像的位置。基于该检测结果,调整波像差测定单元(35)的入射面(36a)的位置,调整图样的像相对于入射面(36a)的位置。在这种调整之后,利用波像差测定单元(35)检测出经由投影光学系统(PL)成像的图样的像,基于该检测结果,利用波像差检测部(41)求出投影光学系统(PL)的波像差。 | ||
| 申请公布号 | CN1423831A | 申请公布日期 | 2003.06.11 |
| 申请号 | CN01808047.2 | 申请日期 | 2001.12.21 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 水野恭志 |
| 分类号 | H01L21/027;G01B11/00;G01M11/02 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1、一种波像差测定装置，在配备有检测出经由被检测光学系统在规定面上成像的图样的像的图样像检测机构，以及基于被检测出来的前述图样的像求出前述被检测光学系统的波像差信息的波像差运算机构的波像差测定装置中，其特征为，配备有检测前述图样的像相对于前述规定面的成像状态的成像状态检测机构，以及，根据所检测出来的前述成像状态调整前述规定面及前述图样像的相对位置的调整机构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||