发明名称 卤化剂、该卤化剂之制法及以该卤化剂制备卤化合物之方法
摘要 本发明发表一种以通式(1)表示之氟化剂:其中R1至R4为被取代或未被取代、饱和或不饱和烷基、或被取代或未被取代芳基,且其可相同或不同;R1及 R2或R3及R4可键结而形成包括氮原子或氮原子及其他杂原子之环;或R1及R3可键结而形成包括氮原子或氮原子及其他杂原子之环,例如:及此氟化剂之制备方法,及经由使各种化合物与氟化剂反应而制备氟化合物之方法。本发明亦发表此氟化剂对于氟化含氧官能化合物非常有效。
申请公布号 TW530050 申请公布日期 2003.05.01
申请号 TW087112857 申请日期 1998.08.03
申请人 三井化学股份有限公司 发明人 园田宽;冈田一成;高桥章;福村考记;林秀俊;永田辉幸;高野安弘
分类号 C07D233/02 主分类号 C07D233/02
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路三段三四六号一一一二室;宿希成 台北市松山区南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种以化学式(1)表示之氟化剂:其中R1至R4为被具有2至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同;或R1及R3可键结而形成包括氮原子之五员环或六员环。2.如申请专利范围第1项之氟化剂,其中该以化学式(1)表示之氟化剂系以化学式(2)表示:其中a为2或3之整数,R5及R6为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同。3.如申请专利范围第2项之氟化剂,其中该以化学式(2)表示之氟化剂系以化学式(3)表示之2,2-二氟-1,3-二甲基咪唑啶:4.如申请专利范围第2项之氟化剂,其中该以化学式(2)表示之氟化剂系以化学式(4)表示之2,2-二氟-1,3-二丁基咪唑啶:5.如申请专利范围第1项之氟化剂,其中该以化学式(1)表示之氟化剂系以化学式(6)表示之双-二甲胺基二氟甲烷:6.如申请专利范围第1项之氟化剂,其中该以化学式(1)表示之氟化剂系以化学式(7)表示之双-二-正丁胺基二氟甲烷:7.一种制备以化学式(8-1)表示之氟化合物之方法:R11-F (8-1)其中R11为具有1至8个碳原子之被取代或未被取代烷基,且其中可包含不饱和基团,其包括使具有醇羟基且以化学式(8)表示之化合物:R11-OH (8)其中R11系与化学式(8-1)相同,与以申请专利范围第1项所定义之化学式(1)表示之该氟化剂在温度范围为-40至100℃下反应。8.一种制备以化学式(9-1)表示之氟化合物之方法:其中Y1为-NO2基,b为1之整数,c为1之整数,及b+c≦6,其包括使以化学式(9)表示之酚种类或硫酚种类之化合物:其中Q为氧或硫原子,及Y1.b及c系与化学式(9-1)相同,与以申请专利范围第1项所定义之化学式(1)表示之该氟化剂于温度范围0至150℃下反应。9.一种制备以化学式(10-1)表示之氟化合物之方法:R12-CHF2 (10-1)其中R12为具有1至6个碳原子之烷基、或苯基,其包括使以化学式(10)表示之醛化合物:R12-CHO (10)其中R12系与化学式(10-1)相同,与以申请专利范围第1项所定义之化学式(1)表示之该氟化剂于温度范围0至150℃下反应。10.一种制备以化学式(11-1)表示之氟化合物之方法:其中R13及R14为被取代或未被取代烷基、或被取代或未被取代苯基,且其可相同或不同;及R13及R14可键结而形成环,其包括使以化学式(11)表示之酮化合物:其中R13及R14系与化学式(11-1)相同,与以申请专利范围第1项之化学式(1)表示之该氟化剂于温度范围0至150℃下反应。11.一种制备以化学式(12-1)表示之酸氟化物之方法:R15-COF (12-1)其中R15为苯基,其包括使以化学式(12)表示之羧基化合物:R15-COOH (12)其中R15系与化学式(12-1)相同,与以申请专利范围第1项化学式(1)表示之该氟化剂于温度范围-40至100℃下反应。12.一种制备以化学式(13-1)表示之氟化合物之方法:其中Y1为硝基,b及d为1至5之整数,及b+d≦6,其包括使包含除氟外之卤原子且以化学式(13)表示之芳族化合物:其中X1为除氟外之卤原子,及Y1.b及d系与化学式(13-1)相同,与以申请专利范围第1项之化学式(1)表示之该氟化剂于温度范围0至150℃反应。13.一种制备以化学式(25)表示之含氟烯烃化合物之方法:其中R15至R17为氢原子或具有1至3个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同;及Z为-(Y)n-CHF2或-(Y)n-CH2F,其中Y为-CH2-及n为0或1至5之整数,其包括使以申请专利范围第1项之化学式(1)表示之氟化剂与以化学式(24)表示之烯烃化合物于温度范围0至150℃下反应其中R15至R17为氢原子或具有1至3个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同;及X为-(Y)n-CHO或-(Y)n-CH2OH,其中Y为-CH2-及n为0或1至5之整数。14.如申请专利范围第7至13项中任一项之方法,其中该氟化剂系以如申请专利范围第2项之化学式(2)表示。15.一种以化学式(2)表示之化合物:其中a为2或3之整数,R5及R6为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同。16.如申请专利范围第15项之化合物,其系以化学式(3)表示之2,2-二氟-1,3-二甲基咪唑啶:17.如申请专利范围第15项之化合物,其系以化学式(4)表示之2,2-二氟-1,3-二-正丁基咪唑啶:18.一种制备如申请专利范围第1项之以化学式(1)表示之氟化剂之方法,其包括使以化学式(14)表示之化合物:其中X2及X3为氯或溴原子,R1至R4为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同;或R1及R3可键结而形成包括氮原子之环,与以化学式(14)化合物量计为2至5当量之氟原子之硷金属盐在惰性溶剂中于温度范围-20至150℃下进行卤素交换反应。19.一种以化学式(15)表示之卤化剂:其中X4及X5为卤原子,且除了X4及X5两者皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,其可为相同或不同;R1至R4为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同;或R1及R3可键结而形成包括氮原子之环。20.如申请专利范围第19项之卤化剂,其中该以化学式(15)表示之卤化剂系以化学式(16)表示:其中X4及X5为卤原子,且除了X4及X5两者皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,其可为相同或不同;a为2或3之整数,R5及R6为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同。21.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(17)表示之2-卤基-1,3-二甲基咪唑=卤化物:其中X4及X5为卤原子,且除了X4及X5皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,其可相同或不同。22.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(18)表示之2-氟-1,3-二甲基咪唑=氯化物:23.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(19)表示之2-氟-1,3-二甲基咪唑=溴化物:24.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(20)表示之2-氟-1,3-二甲基咪唑=碘化物:25.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(21)表示之2-氯-1,3-二甲基咪唑=溴化物:26.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(22)表示之2-氯-1,3-二甲基咪唑=碘化物:27.如申请专利范围第20项之卤化剂,其中该以化学式(16)表示之卤化剂系以化学式(23)表示之2-碘-1,3-二甲基咪唑=碘化物;28.一种制备如申请专利范围第19项所定义之化学式(15)表示之卤化剂之方法,其包括使以化学式(14)表示之化合物:其中X2.X3及R1至R4系与如申请专利范围第18项所定义者相同,与以化学式(14)之化合物之量计为2至5当量之氟原子、氯原子、溴原子或碘原子之硷金属盐或其混合物在惰性溶剂中于温度范围-20至150℃下进行卤素交换反应。29.一种制备以化学式(8-2)表示之卤素化合物之方法:R11-X5 (8-2)其中R11为具有1至8个碳原子之烷基,且其中可包含不饱和基团,及X5为卤原子,其包括使以化学式(8)表示之醇羟基化合物:R11-OH (8)其中R11系与化学式(8-2)相同,与以化学式(15)表示之以上的卤化剂于温度范围-40至100℃下反应:其中X4.X5系与申请专利范围第19项所定义者相同。30.一种制备以化学式(12-2)表示之酸卤化物种类之方法:R15-COX6 (12-2)其中R15为苯基,及X6为以申请专利范围第19项之化学式(15)中之X4或X5表示之卤原子,其包括使以化学式(12)表示之羧酸化合物:R15-COOH (12)其中R15系与化学式(12-2)相同,与以化学式(15)表示之卤化剂于温度范围-40至100℃下反应:其中X4.X5及R1至R4系与申请专利范围第19项所定义者相同。31.一种制备以化学式(10-2)表示之氟化合物之方法:R12-CH(X7)2 (10-2)其中R12为苯基,及X7为以申请专利范围第19项之化学式(15)中之X4或X5表示之卤原子,及两X7不同时相同,其包括使以化学式(10)表示之醛化合物:R12-CHO (10)其中R12系与化学式(10-2)相同,与以化学式(15)表示之卤化剂于温度范围为0至150℃下反应;其中X4.X5及R1至R4系与申请专利范围第19项所定义者相同。32.一种制备如申请专利范围第28至30项中任一项之卤素化合物之方法,其中该卤化剂系以化学式(17)表示其中X4及X5为卤素原子,除了X4及X5两者皆为氟原子、氯原子或溴原子外,其可为相同或相异。33.一种以化学式(15)表示之化合物:其中X4及X5为卤原子,且除了X4及X5皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,其可相同或不同;R1及R4为具有1至4个碳原子之低碳烷基,其可相同或不同;或R1及R3可键结而形成包括氮原子或氮原子及其他杂原子之环。34.一种以化学式(16)表示之化合物:其中除了X4及X5皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,X4及X5为相同或不同的卤原子,a为2或3之整数,R5及R6为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同。35.如申请专利范围第19项之卤化剂,其中该卤化剂系以化学式(17)表示之2-卤基-1,3-二甲基咪唑=卤化物:其中X4.X5系与以上相同。36.一种以化学式(18)表示之化合物,2-氟-1,3-二甲基咪唑=氯化物:37.一种以化学式(19)表示之化合物,2-氟-1,3-二甲基咪唑=溴化物:38.一种以化学式(20)表示之化合物,2-氟-1,3-二甲基咪唑=碘化物:39.一种以化学式(21)表示之化合物,2-氯-1,3-二甲基咪唑=溴化物:40.一种以化学式(22)表示之化合物,2-氯-1,3-二甲基咪唑=碘化物:41.一种以化学式(23)表示之化合物,2-碘-1,3-二甲基咪唑=碘化物:42.一种制备以化学式(15)表示之卤化剂之方法:其中X4及X5为卤原子,且除了X4及X5皆为氟原子、氯原子或溴原子之外,其可相同或不同:R1及R4为具有1至4个碳原子之低碳烷基,且其可相同或不同:或R1及R3可键结而形成包括氮原子环,其包括使以化学式(1)表示之化合物:其中R1至R4系与以上相同,与氯、溴或碘原子之硷金属盐在惰性溶剂之存在下于温度范围-20至150℃下进行卤素交换反应。图式简单说明:图1系于实施例1中制备得之2,2-二氟-1,3-二甲基咪唑啶之IR光谱。
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