| 主权项 |
1.一种曝光装置,系透过形成有图案之光罩使基板曝光,其具备:三个第1支撑构件,以在该基板照明区域以外之三个位置,将前述基板大致支撑为水平。2.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述照明区域包含形成图案之图案区域、及形成标记之标记区域。3.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,以前述第1支撑构件支撑前述基板之支撑位置,系设定在该基板之挠曲最小之位置。4.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,以前述第1支撑构件支撑前述基板之支撑位置,系设定在该基板之搬送时支撑该基板之第2支撑构件所抵接之位置以外之位置。5.如申请专利范围第4项之曝光装置,其中,以前述第2支撑构件对前述基板进行三点支撑,并系将第1支撑构件和第2支撑构件配置成:设第1三角形(以前述第1支撑构件构成)之一个顶点为第1顶点,设由该第1顶点以外之二点所构成之边为第1底边,设第2三角形(以前述第2支撑构件构成)之一个顶点为第2顶点,设由该第2顶点以外之二点所构成之边为第2底边,该第1底边与该第2底边大致平行,该第1顶点相对该第1底边位于该第2底边侧,该第2顶点相对该第2底边位于该第1底边侧,在该第1三角形与该第2三角形之部分重复的状态下,该第1顶点至构成该第2底边之二点大致等距离、且该第2顶点至构成该第1底边之二点大致等距离。6.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述基板系具有光穿透性之基板。7.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述第1支撑构件与前述基板抵接之面的表面粗糙度,系设定在0.1mRa程度以上。8.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述第1支撑构件至少与前述基板抵接之面,系以钻石、蓝宝石、红宝石、及陶瓷中之一种材质来形成。9.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述第1支撑构件与前述基板抵接之面大致为圆形,且其直径设定在0.5-30mm左右。10.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述基板之下方,设有防止光之反射的反射防止构件。11.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,具备有可动体,该可动体系于复数处支撑前述具有三个第1支撑构件的基板保持具。12.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述基板保持具系在与前述三个第1支撑构件之不同位置的三点被动态支撑。13.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,设有感测器,该感测器系以光学方式检测前述第1支撑构件上是否已支撑前述基板。14.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述基板系大致形成为矩形,前述感测器具有用以输出检测光的发光部及用以接受该发光部之检测光的受光部,将前述发光部及受光部配置成,在前述基板被支撑于前述第1支撑构件之状态下,该检测光以大致45之角度来照射该基板之一侧端面。15.一种曝光装置,系透过形成有图案之光罩使基板曝光,其具备:可动体,其设有复数个支撑部,该支撑部与前述基板抵接之面的表面粗糙度为0.1mRa程度以上。16.如申请专利范围第15项之曝光装置,其中,前述支撑部与前述基板抵接之面大致为圆形,且其直径为0.5-30mm左右。17.如申请专利范围第15项之曝光装置,其中,前述可动体系在复数处支撑具有前述复数个支撑部之基板保持具。18.如申请专利范围第17项之曝光装置,其中,前述可动体系在与前述复数个支撑部不同之位置,动态支撑前述基板保持具。19.一曝光装置,系透过形成有图案之光罩使基板曝光,其具备:基板保持具,用以装载前述基板;以及可动体,于三个位置将前述基板保持具支撑为水平。20.如申请专利范围第19项之曝光装置,其中,前述基板保持具系在前述可动体上被施以动态结合。21.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,系将复制用图案之放大图案分割为复数之母图案,分别将母图案被投影光学系统缩小之缩小像,复制于前述基板上周边部部分重叠之复数区域。22.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中,前述基板系工作光罩制造用标线板基板。23.如申请专利范围第22项之曝光装置,其中具备校准装置,以在对前述基板进行曝光前,以其他曝光装置(将使用以该曝光装置所制造之工作光罩),采用与该工作光罩之校准时所使用之至少三个位置之基准位置相同的基准位置来进行校准。24.一种微元件,其特征系使用申请专利范围第1项之曝光装置来制造。25.一种元件制造方法,其特征包含有微影步骤,该微影步骤系使用申请专利范围第1项之曝光装置。26.一种光罩,其特征系使用申请专利范围第1项之曝光装置来制造。27.一种光罩之制造方法,其特征包含有微影步骤,该微影步骤系使用申请专利范围第1项之曝光装置。28.一种曝光方法,系透过形成有图案之光罩使基板曝光,其特征系:在该基板之照明区域以外之三个位置,将基板大致支撑为水平的状态下使前述基板曝光。图式简单说明:图1系显示本实施例之曝光装置的概略构成图。图2A系显示浓度滤光镜之构成的俯视图。图2B系显示形成于浓度滤光镜之标记例的图。图3A-图3I系显示浓度滤光镜之减光部的构成图。图4系显示将主标线板之母图案之缩小像投影于基板上之情形的主要部位立体图。图5系显示照度分布检测感测器的构成图。图6系用以说明使用主标线板来制造标线板(工作标线板)时之制造步骤的图。图7系显示标线板之校准机构的立体图。图8系显示将工作标线板之图案投影在晶圆上之投影曝光装置的主要部位立体图。图9系用以说明基板之照明区域与支撑销之位置关系的俯视图。图10系用以说明基板之支撑位置的俯视图。图11系显示搬送装置之机械臂之构成的俯视图。图12系显示支撑销及其附近之构成的截面图。图13系显示试料台的立体图。图14系显示基板支撑所造成之挠曲的示意图。图15A系显示基板表面变形前之曝光照射形状的图。图15B系显示基板表面变形后之曝光照射形状的图。图16A及图16B系显示标线板曝光装置之基板校准与元件曝光装置之工作标线板之校准的关系图。图17系俯视其他基板保持具的立体图。图18系仰视其他基板保持具的立体图。图19系显示安装其他基板保持具之试料台之一部分的立体图。 |
