发明名称 制造一对互补遮罩的方法
摘要 一种制造一对用于电子投射微影成像(EPL)技术之互补遮罩的方法系使用一种运算法则以便将各设计资料散布到一点EPL遮罩上。该运算法则会将正号或负号配置到每一个图案资料上,求取具有正号之图案资料面积的总和而扣减具有负号之图案资料的面积以便获致最小的总和。准备由各符号构成的一种或更多种初始组合,并由此计算出该初始组合的邻近解以获致一种最佳的组合。
申请公布号 TW527642 申请公布日期 2003.04.11
申请号 TW091103557 申请日期 2002.02.27
申请人 电气股份有限公司 发明人 山田泰久;高田健一
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种制造一对互补遮罩的方法,系包括下列步骤:从设计资料中粹取出许多图案资料;将图案资料散布到一对互补遮罩资料上;以及以各互补遮罩资料为基础所形成一对互补遮罩;其中该散布步骤系包含下列步骤:将第一或第二符号配置到每一个图案资料上以获致初始的符号组合;改变该初始组合中一个或更多个元件的符号以获致下一个组合,并在扣减该图案资料中在下一个组合上具有第二符号的面积时藉由叠加该图案资料中在下一个组合上具有第一符号的面积,以计算出用于下一个组合的总和资料;对符号改变作业进行叠代以计算出用于下一个组合的总和资料,且只要该总和资料具有最小値则能够获致该第一和第二符号的最佳组合;以及将具有第一符号的图案资料设定到某一互补遮罩资料上并将具有第二符号的图案资料设定到另一互补遮罩资料上。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该符号改变步骤会产生许多由各符号构成的组合,每一个组合都是藉由改变该初始组合中某一元素的符号而形成的。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该符号改变步骤会产生许多由各符号构成的组合,每一个组合都是藉由改变该初始组合中最多两个元素的符号而形成的。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该符号改变步骤会产生许多由各符号构成的初始组合。5.如申请专利范围第4项之方法,其中该符号改变步骤系包含下列步骤:选两个由各符号构成的初始组合;以该两个由各符号构成的初始组合为基础产生一种新组合,并抛弃一组包含有该初始组合及该新组合的组合之一。6.如申请专利范围第5项之方法,其中若所选出的两个解上各对应元素具有相同的符号时,则该新组合中某一元素的符号会等于各对应元素的符号;且若所选出的两个解上各对应元素具有相反的符号,则该新组合中另一元素会有1/2的机率具有第一符号或第二符号。图式简单说明:第1A图系用以显示一种EPL遮罩的透视图;而第1B图系用以显示一种包含该子场域资料细节之设计资料的示意图。第2A和2B图系用以显示该图案资料的简略俯视图,其中系在资料处理作业的显示流程下显示出不同型式的资料转换作业。第3图系用以显示一种用以从设计资料制造出各互补EPL遮罩之标准习知制程的流程图。第4A和4B图系用以显示各图案资料的示意图,其中显示的是用于制造出包含各遮罩A和B的棋盘式图案遮罩的资料处理作业。第5图系用以显示一种根据本发明某一实施例用于制造出各互补式EPL遮罩之资料处理作业的流程图。第6图系用以显示一种用于将各子场域资料散布到一对互补遮罩A和B上之资料处理作业的流程图。第7图系用以显示一种用于散布各子场域资料之运算法则的概念图示。第8图系用以显示另一种用于散布各子场域资料之运算法则的概念图示。
地址 日本