发明名称 | 光掩模板 | ||
摘要 | 公开了一种透光埋置相移器光掩模板,其包括光学上不均匀衰减薄膜,该膜有至少0.001的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分,贯穿整个薄膜厚度,消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系数变化的分布和薄膜厚度,在选定波长的情况下,提供大约180°的相移(或者它的奇数倍相移)。 | ||
申请公布号 | CN1099613C | 申请公布日期 | 2003.01.22 |
申请号 | CN93112904.4 | 申请日期 | 1993.11.16 |
申请人 | 杜邦光掩公司 | 发明人 | H·U·阿尔普莱;R·H·弗伦奇;F·D·卡尔克 |
分类号 | G03F1/14 | 主分类号 | G03F1/14 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 魏金玺 |
主权项 | 1.一种用于选定波长的透光埋置的相移器光掩模板,其包括一个具有至少0.001透光度的光学不均匀衰减薄膜,并且基本上由金属组分和电介质组分组合而成,所述金属组分和电介质组分包括含金属的氧—碳—氮材料;其中薄膜的一个表面具有比另一表面较高含量的金属组分,贯穿整个薄膜厚度,消光系数变化的分布呈缓变状态;选择所述的变化的分布和薄膜厚度,在选定波长的情况,提供180°+10℃或者其奇数倍的相移。 | ||
地址 | 美国德克萨斯州 |