35Vw和50Vw高比容低接触电阻阳极箔生产工艺

摘要

本发明涉及一种光铝箔的生产方法。主要特点是蚀孔引发时采用30～50Hz的正弦波，在交流腐蚀时腐蚀液为以盐酸为主，硝酸、磷酸、草酸为辅，并添加高效缓蚀剂，腐蚀液的温度为30～50℃。通过上述工艺改进，引发出的孔洞较为理想，能有效地阻止深度腐蚀，使腐蚀在箔的浅表面上进行，消除了因蚀孔吞并而减小扩面的现象，大大增加了腐蚀箔的有效面积，既可使腐蚀蚀孔面积最佳，又利于生产控制。生产的光铝箔具有比容高、接触电阻小的特点，满足了生产高性能铝电解电容器对阳极箔的要求。

主权项

1、35Vw和50Vw高比容低接触电阻阳板箔生产工艺，主要经光箔退火、前处理、蚀孔引发、交流腐蚀、后处理、热处理、化成、清洗、热处理、复片、清洗、热处理，最后形成成品箔，其特征在于蚀孔引发时采用30～50Hz的正弦波，同时，在交流腐蚀时腐蚀液为以盐酸为主，硝酸、磷酸、草酸为辅，并添加高效缓蚀剂，腐蚀液的温度为30～50℃。