发明名称 OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE SYSTEM PROVIDED WITH THE OPTICAL SYSTEM
摘要 <p>L'invention concerne un système optique capable de garantir un bon rendement optique sans être sensiblement affecté par la biréfringence, même lorsqu'un matériau cristallin biréfringent tel que la fluorine est utilisé. Ce système comprend un premier groupe de lentilles (105, 106), constitué d'une pluralité de lentilles à cristaux présentant chacune un axe optique (AX100) concordant avec un axe cristallographique (111), et un second groupe de lentilles (109, 110), constitué d'une pluralité de lentilles à cristaux présentant chacune l'axe optique concordant avec un axe cristallographique (100). Le premier groupe de lentilles présente un premier groupe de lentilles A et un premier groupe de lentilles B, qui se trouvent dans une relation de position dans laquelle un groupe est pivoté relativement par rapport à l'autre dans un premier angle, et le second groupe de lentilles présente un second groupe de lentilles A et un second groupe de lentilles B, qui se trouvent dans une relation de position dans laquelle un groupe est pivoté relativement par rapport à l'autre dans un second angle.</p>
申请公布号 WO2003001271(P1) 申请公布日期 2003.01.03
申请号 JP2002006131 申请日期 2002.06.19
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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