| 发明名称 | 铟锡氧化物溅射靶 | ||
| 摘要 | 本发明提供伴随靶的累计使用时间的增加,腐蚀部分发生结块引起的颗粒和堆积在非腐蚀部分的黄色粉末引起的颗粒的发生量降低的ITO靶。在实质上由铟,锡和氧构成的ITO溅射靶中,使非腐蚀部分的厚度比腐蚀部分的厚度薄,使腐蚀部分突出同时使包含腐蚀部分的平面与包含非腐蚀部分的平面用钝角斜面连接的形状,使上述腐蚀部分的表面粗糙度(Ra)在0.1微米以下,使非腐蚀部分和连接腐蚀部分与非腐蚀部分斜面的表面粗糙度Ra在1.0微米以上。 | ||
| 申请公布号 | CN1385553A | 申请公布日期 | 2002.12.18 |
| 申请号 | CN02119004.6 | 申请日期 | 2002.04.04 |
| 申请人 | 东曹株式会社 | 发明人 | 内海健太郎;黑泽聪;星野浩邦 |
| 分类号 | C23C14/34;C23C14/08 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1.一种ITO溅射靶，其特征在于：实质上由铟，锡和氧构成的ITO溅射靶中，使非腐蚀部分的厚度比腐蚀部分的厚度薄，使腐蚀部分突出并使包含上述腐蚀部分的平面与包含上述非腐蚀部分的平面用钝角斜面连接的形状，使上述突出的腐蚀部分的表面粗糙度(Ra)在0.1微米以下，使非腐蚀部分和连接腐蚀部分与非腐蚀部分的斜面的表面粗糙度(Ra)在1.0微米以上。 | ||
| 地址 | 日本山口县 | ||