| 主权项 |
1.一种相当于式(I)之金属错合物:其中M为+2.+3或+4形式氧化态之钛、锆或铪;R'及R''在每一状况中各自为氢化物、烃基、矽基、锗基、卤化物、烃氧基、烃矽氧基、烃矽烷胺基、二(烃基)胺基、亚烃基胺基、二(烃基)膦基、亚烃基-膦基、烃基硫基、卤代-烃基、烃氧基取代烃基、矽烷基取代烃基、烃矽氧基烃基、烃矽烷基胺基取代烃基、二(烃基)胺基取代烃基、亚烃基胺基取代烃基、二(烃基)膦取代烃基、亚烃基-膦-取代烃基、或烃硫基取代烃基,该R'及R"具有高至40非氢原子且可选择至少二前述基团可共同形成一二价衍生物;R'''为一二价亚烃基或与金属错合物之其余部份形成一融合系统之取代亚烃基,该R'''含有1至30非氢原子;Z为二价基团、或含有一-键及能形成配位共价键至M之中性二电子对之基团,该Z包含硼、或元素周期表第14族的元素,且包含氮、磷、硫或氧;X为单价阴离子配位体,其具有高至60原子,除了为环、错位、-键结配位体基类之配位体;X'在每一状况各自为具有高至20原子之中性路易斯硷配位化合物;X''为具有高至60原子之二价阴离子配位体;p为0.1.2或3;q为0.1或2;及r为0或1。2.如申请专利范围第1项之金属错合物,其中R'''以相当于下式:其中R'如申请专利范围第1项之界定。3.如申请专利范围第1项之金属错合物,其相当于下式之错合物:其中:R'为烃基、二(烃基胺基)、或亚烃基胺基,该R'有高至20之碳原子;R''为C1-20烃基或氢;M为钛;Y为-O-、-S-、-NR*-、-PR*;Z*为SiR*2.CR*2.SiR*2 SiR*2.CR*2CR*2.CR*=CR*、SiR*2 SiR*2或GeR*2;R*在每一状况下各自为氢或选自烃基、烃氧基、烷基、卤化烷基、卤化芳基及其等之组合所组成之组群中,该R*具有高至20非氢原子,且可选择的由Z之二R*基(当R*不为氢)、或由Z之一R*基及一由Y之R*基形成环系统;X、X'、X''如前述定义;p为0.1.或2;q为0或1;及r为0或1;但条件为:当p为2,q及r为0,M为+4形式氧化态(或若Y为M为-NR2*-或-PR2*-时,M为+3形式氧化态),且X为选自下列组群之阴离子性配位体:卤化物、烃基、烃氧基、二(烃基)醯胺基、二(烃基)磷基、烃基硫基及矽烷基以及其等之卤代-、二(烃基)胺基-、烃氧基-、及二(烃基)膦基取代之衍子生物;该X基具有高至30之非氢原子,当r为1,p及q为0,M为+4形式氧化态,且X''为选自下列组成之组群之二阴离子性配位体:烃基、烃氧基及亚烃二氧基,该X具有高至30之非氢原子,当p为1,q及r为0,M为+3形式氧化态,且X为选自下列组成之组群之安定化阴离子性配位体:烯丙基-、2-(N,N-二甲基胺基)苯基、2-(N,N-二甲基胺基甲基)苯基、及2-(N,N-二甲基胺基)苯甲基,及当p及r为0,q为1,M为+2形式氧化态,且X'为中性共轭或非共轭二烯,合宜的可由至少一烃基取代,该X'具有高至40碳原子且与M形成-错合。4.如申请专利范围第1项之金属错合物,其相当于下式:5.如申请专利范围第1项之金属错合物,其相当于下式:6.如申请专利范围第1项之金属错合物,其相当于下式:7.一种用于烯烃聚合作用之催化剂,其包含唯一或非唯一之:A.(1)申请专利范围第1项之金属错合物;及(2)一活化共催化剂(1)对(2)之莫耳比例为1:10,000至100:1,或B.经由使用活化技术转化申请专利范围第1项之金属错合物至活性催化剂而形成之反应产物。8.如申请专利范围第7项之烯烃聚合作用催化剂,其中该活化共催化剂另包含唯一或非唯一之三-五氟苯基硼烷。9.如申请专利范围第8项之烯烃作用催化剂其中该活化催化剂包含莫耳比例为1:1至5:1之唯一或非唯一之铝恶烷及三-五氟苯基硼烷。10.一种烯烃聚合之方法,其包含在聚合作用状况下将至少一C2-100,000-烯烃与申请专利范围第7至9项之一种催化剂接触。11.如申请专利范围第10项之方法,其在溶液、浆料或气相聚合状况下进行。12.一种烯烃共聚合方法,其中乙烯及苯乙烯在含有申请专利范围第4项之金属错合物存在下共聚合。13.一种烯烃共聚合方法,其中乙烯、聚丙烯及可选择的共轭二烯或苯乙烯在含有申请专利范围第6项之金属错合物存在下共聚合。14.如申请专利范围第13项之方法,其在溶液聚合状况下进行。15.一种制备相当于下式之中性二烯的方法:其中M为+2形式氧化态之钛;R'及R''在每一状况中各自为氢化物、烃基、矽基、锗基、卤化物、烃氧基、烃矽氧基、烃矽烷胺基、二(烃基)胺基、亚烃基胺基、二(烃基)膦基、亚烃基-膦基、烃基硫基、卤代-烃基、烃氧基取代烃基、矽烷基取代烃基、烃矽氧基烃基、烃矽烷基胺基取代烃基、二(烃基)胺基取代烃基、亚烃基胺基取代烃基、二(烃基)膦取代烃基、亚烃基-膦-取代烃基、或烃硫基取代烃基,该R'及R"具有高至40非氢原子且可选择至少二前述基团可共同形成一二价衍生物;R'''为一二价亚烃基或与金属错合物之其余部份形成一融合系统之取代亚烃基,该R'''含有1至30非氢原子;Z为二价基团、或含有一-键及能形成配位共价键至M之中性二电子对之基团,该Z包含硼、或元素周期表第14族的元素,且包含氮、磷、硫或氧;及X'各自为具有高至20原子之中性共轭二烯物;其包含将相当下式之金属错合物:其中M为+3或+4形式氧化态之钛;R'、R''、R'''及Z如前述定义;X为单价阴离子配位体,其具有高至60原子,除了为环、错位、-键结配位体基类之配位体;X''为具有高至60原子之二价阴离子配位体;p为0.1.2或3;q为0.1或2;及r为0或1;在惰性稀释剂中于还原剂存在下与1至2当量之式X'之中性二轭二烯反应并回收结果产物。16.如申请专利范围第15项之方法,其中包含金属错合物及还原剂之反应混合物在加入共轭二烯前加热至50至95℃。 |
