| 发明名称 |
Anti-charging layer for beam lithography and mask fabrication |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002321990(A1) |
申请公布日期 |
2002.12.03 |
| 申请号 |
AU20020321990 |
申请日期 |
2002.02.08 |
| 申请人 |
us navy naval res lab |
发明人 |
SUSAN L. BRANDOW;ELIZABETH DOBISZ;WALTER J. DRESSICK;MU-SAN CHEN |
| 分类号 |
G03C5/04;G03C7/04;G03F7/09;G03F7/16;(IPC1-7):G03F7/16;G03F7/00 |
主分类号 |
G03C5/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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