| 主权项 |
1.一种具有灰阶部之灰阶罩幕之缺陷检查方法,其 特征在于:调整遮光部、透射部和透射量之领域, 以减少透射该领域之光线透射量,而选择性地变更 光阻之膜厚为目的者; 使用罩幕内图案之操作所得之透射率信号, 针对该透射率信号设定灰阶部之透射率缺陷之临 界値,若超过该临界値时,即判断为灰阶部发生透 射率缺陷者。2.如申请专利范围第1项之缺陷检查 方法,其中,系进一步设置遮光部及透射部之透射 率缺陷之各临界値,超过该各临界値时,即判断为 遮光部或透射部发生透射率缺陷者。3.如申请专 利范围第1或2项之缺陷检查方法,其中,前述灰阶部 系属于使用灰阶罩幕之曝光机解像界限以下之遮 光图案所形成之领域,其系超过该灰阶部特有之基 本信号水准,而设定前述透射率缺陷之临界値作为 超过该灰阶部之容许透射量之水准者。4.如申请 专利范围第1或2项之缺陷检查方法,其中,前述灰阶 部形成半透射膜之领域,藉以控制光线透射膜层之 透射量;而设定前述透射率缺陷之临界値作为超过 该灰阶部之容许透射量之水准者。5.一种具有灰 阶部之灰阶罩幕之缺陷检查装置,其特征在于:调 整遮光部、透射部和透射量之领域,以减少透射该 领域之光线透射量而选择性地变更光阻之膜厚为 目的者;并具有: 检测透射率信号之手段,系藉由平行光源及受光镜 头扫描罩幕内形成之图案者; 设定临界値之手段,系针对前述透射率信号至少设 定灰阶部之透射率缺陷之临界値者; 监定手段,系于超过前述临界値时,判断灰阶部发 生透射率缺陷者。6.如申请专利范围第1或2项之缺 陷检查方法,其中,灰阶罩幕系属于LCD制造用罩幕 或显示装置制造用罩幕者。7.如申请专利范围第3 项之缺陷检查方法,其中,灰阶罩幕系属于LCD制造 用罩幕或显示装置制造用罩幕者。8.如申请专利 范围第4项之缺陷检查方法,其中,灰阶罩幕系属于 LCD制造用罩幕或显示装置制造用罩幕者。9.一种 光罩之缺陷检查方法,其中,其光罩图案之缺陷检 查方法,系根据扫描罩幕内图案所得透射率信号中 透射率之异常变动而检测缺陷者。10.如申请专利 范围第9项之光罩之缺陷检查方法,其中,前述根据 透射率之异常变动所作缺陷之检测,系根据相应于 检查对象图案领域而设定之透射率缺陷临界値进 行者。11.如申请专利范围第9或10项之光罩之缺陷 检查方法,其中,前述光罩系包含有微细图案之LCD 制造用光罩或包含有微细图案之显示用装置制造 用光罩者。12.一种光罩之缺陷检查装置,其中具有 : 检测透射率信号之手段,系藉由平行光源及受光镜 头扫描罩幕内形成之图案者; 设定临界値之手段,系针对前述透射率信号设定相 应于检查对象图案领域之透射率缺陷之临界値者; 监定手段,系于超过前述临界値时,判断图案领域 发生透射率缺陷者。图式简单说明: 图1(1)、(2)为说明本发明之一实施形态之缺陷检查 方法之图。 图2(1)、(2)为说明透射率缺陷之一形态之图。 图3(1)、(2)为说明透射率缺陷之其他形态之图。 图4(1)、(2)为说明透射率缺陷之又一其他形态之图 。 图5为说明灰阶部特有之基本信号水准之图。 图6为说明灰阶罩幕之图,(1)为部分俯视图,(2)为部 分剖面图。 图7为说明灰阶部其他形态之部分俯视图。 图8为说明灰阶部又一其他形态之部分俯视图。 图9(1)~(5)为说明习知缺陷检查方法之图。 |
