| 发明名称 |
A method for fabrication of a high capacitance interpoly dielectric |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU2002243516(A1) |
申请公布日期 |
2002.10.15 |
| 申请号 |
AU20020243516 |
申请日期 |
2002.01.10 |
| 申请人 |
ATMEL CORPORATION |
发明人 |
AMIT S. KELKAR;MARK A. GOOD |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/768;H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
