发明名称 Retainer ring of polishing head and chemical mechanical polishing apparatus having it
摘要 <p>연마 헤드 내부에 유입된 슬러리 찌꺼기 등 오염물질을 효과적으로 배출할 수 있도록 된 연마 헤드의 리테이너 링과 이를 구비한 화학기계적 연마장치가 개시된다. 개시된 리테이너 링은 연마 헤드의 내부 공간에 유입된 오염물질을 배출하기 위해 링 몸체의 내주면과 외주면 사이를 관통하는 다수의 오염물질 배출구를 구비한다. 오염물질 배출구는 링 몸체의 외주를 따라 실질적으로 동일한 간격으로 적어도 6개가 마련되고, 그 내측 개구와 외측 개구는 횡방향이 보다 긴 장공 형상으로 되어 있으며, 그 각각은 복수의 내측 구멍과 복수의 내측 구멍을 포괄하는 하나의 외측 구멍으로 이루어진다. 그리고, 개시된 화학기계적 연마장치는 상술한 리테이너 링 이외에도 오염물질 배출구를 통해 연마 헤드 내부로 순수를 분사하는 제3 노즐을 구비한 세척수단을 포함한다. 오염물질 배출구는 제3 노즐로부터 분사되는 순수가 연마 헤드 내부로 보다 쉽게 유입될 수 있도록 외측으로 갈수록 그 단면의 횡방향 폭이 커지도록 되어 있다.</p>
申请公布号 KR100355224(B1) 申请公布日期 2002.10.11
申请号 KR19990023490 申请日期 1999.06.22
申请人 삼성전자 주식회사 发明人 양윤식;차훈;김경대;김민규
分类号 B24B37/00;B24B37/04;B24B37/30;H01L21/304 主分类号 B24B37/00
代理机构 代理人
主权项
地址