Chemisch verstärkende, positiv arbeitende Resistmasse

摘要

Eine Resistmasse wird bereitgestellt, die eine ausgezeichnete Ausgewogenheit zwischen Auflösung und Empfindlichkeit besitzt und auch ausgezeichnet löslich und insbesondere zur Verwendung als positiv arbeitender Photoresist geeignet ist und ein Harz mit einer alicyclischen Lactonstruktureinheit, das an sich in Alkali unlöslich ist, aber auf Grund der Einwirkung einer Säure löslich wird, ein Lösungsmittel, das 2-Heptanon enthält, und ein Säure erzeugendes Mittel umfasst, wobei der Gehalt an 2-Heptanon im Lösungsmittel im Bereich von etwa 5 bis etwa 95 Gew.-% liegt.