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发明名称
Crystal growth method
摘要
본 발명은 단결정(4)을 포위하는 냉각체(6)를 사용한 CZ 법에 있어서, 인상 속도의 고속화에 대하여 냉각체를 유효하게 기능시켜, 과도한 냉각에 의한 단결정의 균열을 방지하는 동시에 높은 결정질을 확보하는 것을 목적으로 한다. 이것을 실현하기 위해서, 냉각체(6)의 높이를 단결정(4)의 직경의 1.5배 이하로 하고, 또한 단결정(4)의 외주면에 대향하는 냉각체(6)의 내주면의 표면 온도를 500℃ 이하로 한다.
申请公布号
KR20020070290(A)
申请公布日期
2002.09.05
申请号
KR20027006709
申请日期
2002.05.25
申请人
스미토모 미츠비시 실리콘 코포레이션
发明人
구보다카유키;가와히가시후미오;아사노히로시;미키신이치로;니시모토마나부
分类号
C30B29/06;C30B15/00;C30B15/14;H01L21/208
主分类号
C30B29/06
代理机构
代理人
主权项
地址
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