| 主权项 |
1.一种用以制造疏水性颗粒式无机氧化物的方法,其系任择地在一表面活性剂及/或一能与水混溶的溶剂之存在下,令一选自于由沈积的氧化矽、胶状的氧化矽以及此等无机氧化物的混合物所组成的群组中之颗粒式无机氧化物之酸性水性悬浮液与一有机金属化合物接触,以形成一疏水性颗粒式无机氧化物的酸性水性悬浮液,并且回收该疏水性颗粒式无机氧化物,该方法之改进处包括以足可疏水化该无机氧化物之用量来使用该有机金属化合物,以使得在一具有一为2.5或更低的pH値的无机氧化物悬浮液中,该无机氧化物具有一为2至15 OH/nm2之羟基含量、一为0.1至6重量%之碳含量,以及一为15至45%之甲醇湿润性,以及将该疏水性颗粒式无机氧化物之酸性水性悬浮液以酸中和剂来处理,以产生一具有一为3至10之pH値、实质上无法萃出的碳含量及一低于0.4%之M1标准白色区域的疏水性颗粒式无机氧化物。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该有机金属物质系选自于由下列所组成的群组中:由下式所表示之第一有机金属化合物:R1aMX4-a由下式所表示之第二有机金属化合物:R22n+2SinOn-1由下式所表示之第三有机金属化合物:(R33Si)kNR53-k以及由下式所表示之第四有机金属化合物:R42mSimOm其中:(a)各个M系个别地为矽、钛或锆;(b)各个R1系个别地为不具有烯属不饱和性且含有1至18个碳原子的烃基;(c)各个X系个别地为卤素基、胺基、含有1至12个碳原子的烷氧基或含1至12碳原子的醯氧基;(d)a是1.2或3;(e)各个R2系个别地为卤素基、羟基或是一不具有烯属不饱和性且含有1至18个碳原子的烃基,但至少百分之50莫耳的R2取代基是该烃基;(f)n是从2至10,000;(g)各个R3系个别地为卤素基、羟基或是一不具有烯属不饱和性且含有1至18个碳原子的烃基,但至少百分之50莫耳的R3取代基是该烃基;(h)各个R5系个别地为氢或是一不具有烯属不饱和性且含有1至18个碳原子的烃基;(i)k是1或2;(j)各个R4系个别地为不具有烯属不饱和性且含有1至18个碳原子的烃基;以及(k)m为3至20。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该无机氧化物是沈积的氧化矽。4.如申请专利范围第2项之方法,其中M是矽且X是具有1至4个碳原子的烷氧基或卤素基。5.如申请专利范围第4项之方法,其中X是氯或甲氧基。6.如申请专利范围第3项之方法,其中该疏水化的氧化矽具有一为4-12 OH/nm2之羟基含量、一为0.3至3重量%之碳含量以及一低于0.25%的M1标准白色区域。7.如申请专利范围第6项之方法,其中所使用之该有机金属化合物的含量为在每平方公尺的氧化矽中提供3至40mole的碳原子。8.如申请专利范围第7项之方法,其中该有机金属化合物是六甲基二矽氧烷。9.如申请专利范围第6项之方法,其中该有机金属化合物系选自于具有下式者:R1aMX4-a其中各个R1为一不具有烯属不饱和性且含有1至8个碳原子的烃基,X是卤素基或一含有1至12碳原子的烷氧基,以及a是1.2或3。10.如申请专利范围第1项之方法,其中该疏水性颗粒式无机氧化物的回收系藉由下列步骤来完成:将一不与水混溶之有机溶剂与该疏水性颗粒式无机氧化物的水性悬浮液相混合,该溶剂与无机氧化物的重量比系大于5:1,藉此,将该疏水化的无机氧化物从混合物的水溶液相转移至有机溶剂相。11.如申请专利范围第10项之方法,其中该不与水混溶之有机溶剂系选自于由脂族烃、环烷、芳烃及酮所组成的群组中。12.如申请专利范围第11项之方法,其中该不与水混溶之有机溶剂系选自于己烷、庚烷、甲苯、环己烷及甲基异丁基酮。13.如申请专利范围第1项之方法,其中存有一不与水混溶之有机的助溶剂。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该不与水混溶之有机助溶剂系选自于四氢喃及C1-C4烷醇。15.如申请专利范围第1项之方法,其中该颗粒式无机氧化物的水性悬浮液在与该有机金属化合物接触之前被湿式研磨。16.如申请专利范围第10项之方法,其中该疏水性颗粒式无机氧化物的水性悬浮液在与不与水混溶之有机溶剂混合前被湿式研磨。17.如申请专利范围第10项之方法,其中含有该疏水性颗粒式无机氧化物之该有机溶剂相被湿式研磨。 |
