| 主权项 |
1.一种微影蚀刻投影装置,其包含:-一辐射系统,其用于提供一辐射投影束,该辐射系统包含一照明系统以调整该投影束的角度性及空间性能量分布,并用于提供位于该照明系统的一瞳孔中之该投影束的一预选的强度分布;-一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化构件可依据一所需图案对于该投影束赋予图案;-一基材台,其用于固持一基材并可在该装置中所界定的X,Y座标系沿X及Y方向移动;-一投影系统,其用于将具有图案的束投影在该基材的一目标部上,并用于将该强度分布投影在该投影系统的一瞳孔上,-其中该强度异常系包含分别沿该X与Y方向分布且具有显着不同强度之两个长形段,及-其中该矫正构件包含可沿该投影装置的光学轴线旋转之一光学元件。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该光学元件系为可以透射或反射方式操作之一衍射性光学元件。3.如申请专利范围第2项之装置,其中该衍射性光学元件包含一阵列的微型镜片。4.如申请专利范围第3项之装置,其中该阵列的微型镜片将旋转,而使得与该等微型镜片中心相接合的一条线对于与该阵列的光学轴线呈垂直之一参考方向产生15.5至20度角的倾斜。5.如申请专利范围第3或4项之装置,其中各个该等微型镜片在沿中轴线旋转时并未呈圆形对称。6.如申请专利范围第5项之装置,其中各个该等微型镜片在与该光学轴线呈垂直的两正交方向其中一者中具有身为另一正交方向尺寸的94至99%之尺寸。7.如申请专利范围第1项之装置,其中该照明系统包含一可调整式束定型元件,其用于界定该预选的强度分布,而该衍射性光学元件系位于该可调整式束定型元件之前。8.如申请专利范围第1项之装置,其中该辐射系统系包含束扩大构件,其用于将一雷射所输出的一束予以扩大,且将该衍射性光学元件放在该束扩大构件之后且其尺寸可矫正不同方向中之束的发散角度差异。9.如申请专利范围第1项之装置,其中该光学元件系为部份透射性辐射滤器。10.如申请专利范围第9项之装置,其中该用以矫正该强度异常之构件系包含可沿该投影装置的光学轴线旋转之一补充性部份透射性辐射滤器,且其在该投影束路径中与该部份透射性辐射滤器呈串列状配置。11.如申请专利范围第10项之装置,其中该部份透射性辐射滤器及该补充性部份透射性辐射滤器之透射率分布系包含:-一第一长形段,其沿着一第一方向分布且其中心系位于该光学轴线上,而具有一第一透射率,及-一第二长形段,其沿着与该第一方向大致呈正交之一第二方向分布且其中心位于该光学轴线上,而具有与该第一透射率显着不同之一第二透射率,及-复数个长形段,其中心位于该光学轴线上且沿着与该等正交方向的其中一者呈对应的复数个角度之对应复数个方向而分布,而具有对应复数个透射率,且依据该角度在该等第一及第二透射率之间具有逐渐改变的透射率。12.如申请专利范围第11项之装置,其中该透射率变异系为该角度的一正弦函数。13.如申请专利范围第12项之装置,其中以cosine(2)得出该角度的正弦函数。14.如申请专利范围第10至13项中任一项之装置,其中该部份透射性辐射滤器与该补充性部份透射性辐射滤器其中至少一者的轴向位置系与自下列各轴向位置所选出之一位置大致重合:该照明系统的瞳孔之位置;该投影系统的瞳孔之位置;与该等瞳孔呈共轭的平面之轴向位置。15.一种微影蚀刻投影装置,其包含:-一辐射系统,其用于提供一辐射投影束,该辐射系统包含一照明系统以调整该投影束的角度性及空间性能量分布,并用于提供位于该照明系统的一瞳孔中之该投影束的一预选的强度分布;-一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化构件可依据一所需图案对于该投影束赋予图案;-一基材台,其用于固持一基材并可在该装置中所界定的X,Y座标系沿X及Y方向移动;-一投影系统,其用于将具有图案的束投影在该基材的一目标部上,并用于将该强度分布投影在该投影系统的一瞳孔上,其中该照明系统系包含一整合器,其中:一衍射性光学元件系位于该整合器之前且包含一阵列的微型镜片,该阵列的微型镜片具有包含该等微型镜片焦点之一焦平面,以及一衍射性板元件,该衍射性板元件系位于该阵列的微型镜片的焦平面邻近处且包含一对大致平行且相邻的板,该等平行的板系具有与该阵列的微型镜片以大致相同节距呈正弦变化之屈光度(refractive power)。16.如申请专利范围第15项之装置,其中该对平行板的屈光度系在与该照明系统的光学轴线垂直之两正交方向中呈正弦状变化。17.如申请专利范围第15项之装置,其进一步包含位于该阵列的微型镜片的焦平面邻近处之一第二衍射性板元件,该第二衍射性光学元件包含一对大致平行且相邻的板,该等平行的板系具有与该阵列的微型镜片以大致相同节距呈正弦变化之屈光度,该第二衍射性板元件的屈光度系在与该另一衍射性板元件的屈光度变化方向呈正交之一方向中变化。18.如申请专利范围第15至17项中任一项之装置,其进一步包含定位构件,其用以调整沿与该照明系统的光学轴线大致垂直之至少一方向彼此相邻之该等平行板的位置。19.如申请专利范围第15.16或17项之装置,其中该等平行板的相对面具有正弦状变化的轮廓,以提供该正弦状变化的屈光度。20.如申请专利范围第1.2.3或4项之装置,其中该支撑结构包含一罩幕台以固持住一罩幕。21.如申请专利范围第1.2.3或4项之装置,其中该辐射系统包含一辐射源。22.一种用于装设微影蚀刻投影装置之方法,其包含:-一辐射系统,其用于提供一辐射投影束,该辐射系统包含一照明系统以调整该投影束的角度性与空间性能量分布,并用于在该照明系统的一瞳孔中提供该投影束之预选的强度分布;-一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化构件的功能为依据一所需图案对于该投影束赋予图案;-一基材台,其用于固持一基材并可在该装置中所界定之X,Y座标系沿X与Y方向移动;-一投影系统,其用于将具有图案的束投影在基材的一目标部上,并用于将该强度分布投影在该投影系统的一瞳孔上,-该方法系包含提供矫正构件以矫正该强度分布的一强度异常之步骤,其中该强度异常系包含分别沿该X与Y方向分布且具有显着不同强度之两个长形段,以及调整可沿该投影装置的光学轴线旋转且位于该矫正构件中之至少一个光学元件的旋转位置,以大致补偿该异常。23.一种利用一微影蚀刻投影装置之部件制造方法,该方法包含以下步骤:-提供一基材,其至少部份受到一层辐射感应式材料所覆盖;-利用一辐射系统来提供一辐射投影束;-利用图案化构件在剖面中对于该投影束赋予一图案;-将具有图案的辐射束投影在该层辐射感应式材料的一目标部上,其特征为下列步骤:提供矫正构件以矫正在选自一组瞳孔的一瞳孔邻近处之投影束剖面中之强度分布的强度异常,此组瞳孔系包含该辐射系统的一瞳孔以及该投影系统的一瞳孔,其中该强度异常系包含分别沿两互相垂直方向分布且具有显着不同强度之两个长形段,可藉由沿该投影装置的光学轴线旋转且位于该矫正构件中之至少一个光学元件的旋转位置方向来大致补偿该异常。图式简单说明:图1显示根据本发明第一实施例之一种微影蚀刻投影装置;图2为本发明第一实施例之照明系统的细部图;图3A及3B为一衍射性光学元件中之微型镜片旋转效果的图示;图4显示本发明第二实施例中之一部份的照明系统;图5为投影束的一剖面、相对于该剖面的一座标系、以及该剖面内的长形段之图示;图6为第三实施例中之一种部份透射性辐射滤器、相对于该滤器的一座标系、以及包含在该滤器中的长形段之图示;图7显示相对于投影束的一剖面且相对于两个部份透射性辐射滤器之座标系;图8为本发明第四实施例之一部份的照明系统的图示;图9A及9B为本发明中一项实施例之一可调整板元件的效果之图示;图10A至10C为图9A与9B所示的本发明实施例的可调整板元件经由调整而达成之不同效果的图示。 |
