主权项 |
1.一种感压型黏着剂组成物,包含: (A)藉由(a)含羧基之可聚合单体与(b)具有至少一个 可聚合之碳-碳双键之可与单体(a)共聚合之另外一 种单体依溶液聚合所得之具有重量平均分子量50, 000一至1,500,000之含羧基共聚物,其中含羟基之可聚 合单体(a)对另一种单体(b)之重量比[(a)/(b)]之范围 为1/500至1/4; (B)中和剂,其使用量为,每莫耳含羟基之共聚物(A) 之羧基为0.0001至1莫耳;及 (C)交联剂,其使用量为,每莫耳含羧基之共聚物(A) 之羧基为0.001至1.0莫耳。2.如申请专利范围第1项 之感压型黏着剂组成物,其中另外一种单体(b)为下 式所示之化合物: 式中,各X1及X3示氢原子,X2示氢原子或甲基,R1示具 有2至12个碳原子之二价烃基,R2示具有1至10个碳原 子之烃基,及n为1至10之数。3.一种感压型黏着片, 其包括基材及叠置于其上之由包含下列成份之感 压型黏着剂组成物所组成之感压型黏着剂层: (A)藉由(a)含羧基之可聚合单体与(b)具有至少一个 可聚合之碳-碳双键之可与单体(a)共聚合之另外一 种单体依溶液聚合所得之具有重量平均分子量50, 000至1,500,000之合羧基共聚物,其中含羟基之可聚合 单体(a)对另一种单体(b)之重量比[(a)/(b)]之范围为1 /500至1/4; (B)中和剂,其使用量为,每莫耳含羧基之共聚物(A) 之羧基为0.0001至1莫耳;及 (C)交联剂,其使用量为,每莫耳含羧基之共聚物(A) 之羧基为0.001至 1.0莫耳。4.如申请专利范围第3项之感压型黏着片, 其系使用于晶圆加工。5.如申请专利范围第3项之 感压型黏着片,其系用于将晶圆背面磨光者,该背 面磨光包括下列步骤: 将如申请专利范围第3项之感压型黏着片黏附于其 上形成有图样之晶圆表面;以及 将晶圆背面磨光同时对晶圆给水。 |